Naslov
Korozijsko ponašanje CuAlMn legure u NaCl topini
(Corrosion behavior of CuAlMn alloy in NaCl solution)

Autori
Matulić, Marko

Vrsta, podvrsta i kategorija rada
Ocjenski radovi, diplomski rad, diplomski

Fakultet
Kemijsko-tehnološki fakultet

Mjesto
Split

Datum
24.10

Godina
2017

Stranica
47

Mentor
Vrsalović, Ladislav

Ključne riječi
legure s prisjetljivosti oblika, CuAlMn legura, korozija, elektrokemijske metode, SEM/EDS analiza
(shape memory alloy, CuAlMn alloy, corrosion, electrochemical metods, SEM/EDS analysis)

Sažetak
U radu je ispitano korozijsko ponašanje CuAlMn legure u 0, 9 % otopini NaCl pri pH = 7, 4, 5, 4 i 3, 4 te temperaturama elektrolita od 25, 37 i 50 oC u mirujućoj otopini. Također je ispitan i utjecaj miješanja otopine na korozijsko ponašanje CuAlMn legure. Elektrokemijska ispitivanja provedena su mjerenjem potencijala otvorenog strujnog kruga, metodom linearne i potenciodinamičke polarizacije. Nakon polarizacijskih mjerenja, površine elektroda ispitane su optičkim mikroskopom, a također je na njima napravljena i SEM/EDS analiza. Rezultati ispitivanja su pokazali da povećanjem koncentracije kloridnih iona dolazi do porasta gustoće korozijske struje i do sniženja vrijednosti polarizacijskog otpora, što ukazuje na intenzivniju koroziju CuAlMn legure. Mikroskopske snimke površine jasno ukazuju na negativan utjecaj gibanja elektrolita, povišenja temperature i smanjenja pH vrijednosti elektrolita na korozijsku otpornost CuAlMn legure, koji se očituje u vidu povećanja hrapavosti površine uslijed intenzivnije korozije. SEM snimke površine legure jasno pokazuju značajan utjecaj temperature na povećanje intenziteta korozijskih procesa. Tako pri 50 oC na površini CuAlMn legure jasno su vidljivi duboki kanali i šupljine nastale intenzivnim otapanjem legure. EDS analiza površine CuAlMn legure nakon potenciodinamičkog polarizacijskog mjerenja u 0, 9 % NaCl otopini pri T = 37 oC i pH = 7, 4, koje je prekinuto na potencijalu 0, 463 V, utvrdila je prisustvo svih legirnih elemenata na površini. Daljnjim pozitiviranjem potencijala dolazi do uklanjanja legirnih elemenata Al i Mn s površine tako da je pri potencijalu od 1, 5 V dominantan element na površini Cu.

Izvorni jezik
Hrvatski

Znanstvena područja
Kemijsko inženjerstvo

POVEZANOST RADA