Naslov
Narastanje tankih filmova titanovog nitrida i titanovog oksida tehnikom depozicije atomskih slojeva
(Growth of thin films of titanium nitride and titanium oxide by atomic layer deposition technique)

Autori
Jelovica Badovinac, Ivana ; Šarić, Iva ; Kavre Piltaver, Ivna ; Ambrožić, Gabriela ; Peter, Robert ; Petravić, Mladen

Vrsta, podvrsta i kategorija rada
Sažeci sa skupova, sažetak, znanstveni

Izvornik
Knjiga sažetaka: 9. znanstveni sastanak Hrvatskog fizikalnog društva, Umag, 5.-7. listopada 2015. / Smolčić, Vernesa ; Bilušić, Ante ; Buljan, Maja ; Gašparić, Igor ; Horvatić, Vlasta ; Kumerički, Krešimir ; Kotnik-Karuza, Dubravka ; Milošević, Slobodan ; Planinić, Mirko ; Požek, Miroslav ; Stanić, Denis ; Tomić, Silvia - Zagreb : Hrvatsko fizikalno društvo, 2015

ISBN
78-953-7178-17-8

Skup
9. znanstveni sastanak Hrvatskog fizikalnog društva

Mjesto i datum
Umag, Hrvatska, 07.10.2015. - 09.10.2015

Vrsta sudjelovanja
Poster

Vrsta recenzije
Nije recenziran

Ključne riječi
titan nitrid, titan oksid, depozicija atomskih slojeva
(titanium nitride, titanium oxide, atomic layer deposition)

Sažetak
Jedan od najčešće korištenih materijala u biomedicini i stomatologiji (npr. za izradu ortopedskih implantata, stentova ili žica za ortodontske aparate) jest nitinol, legura nikla i titana. Nitinol ima čitav niz jedinstvenih svojstava, poput pamćenja oblika, superelastičnosti ili otpornosti na izvijanje [1]. Ipak, prisutnost nikla u ovoj leguri na površini materijala ili njegovo ispuštanje iz samog materijala u ljudski or- ganizam, predstavlja značajan problem, prvenstveno zbog toksičnosti i alergenskih svojstava nikla [2]. Zbog toga je modifikacija površine nitinola u svrhu povećanja njegovih antikorozivnih svojstava i biokompatibilnosti značajna za biomedicinsku pri- mjenu ovoga materijala. Jedan od načina sprječavanja ispuštanja nikla jest stvaranje zaštitnih, biokompatibilnih filmova na površini nitinola, poput titanovog nitrida (TiN) ili titanovog dioksida (TiO2). Dok se TiO2 filmovi mogu dobiti relativno lako različitim metodama, uključujući i termalnu [3], TiN je veoma teško ostvariti zbog visoke reaktivnosti Ti s kisikom. U ovom radu predstavljamo metodu narastanja tankih filmova kontrolirane debljine na nanometarskoj skali TiN i TiO2 na različitim podlogama, uključujući nitinol, korištenjem uređaja za depoziciju atomskih slojeva (ALD tehnike). Fizička i kemijska svojstva narastanih filmova ispitivana su spektroskopijom fotoelektrona rentgenskim zrakama (XPS), pretražnim elektronskim mikroskopom (SEM) i masenim spektrometrom sekundarnih iona (SIMS).

Izvorni jezik
Hrvatski

Znanstvena područja
Fizika

POVEZANOST RADA