Pregled bibliografske jedinice broj: 8571
Nedestruktivna metoda elektrokemijske redukcije oksidnih slojeva formiranih na elektroničkim elementima
Nedestruktivna metoda elektrokemijske redukcije oksidnih slojeva formiranih na elektroničkim elementima // XV. Hrvatski skup kemičara i kemijskih inženjera, Opatija, Sažeci, Abstracts, Vol. 2 / M.Gojo ; N.Trajkov ; S.Smolec (ur.).
Opatija, Hrvatska: Hrvatsko društvo kemijskih inženjera i tehnologa (HDKI), 1997. (poster, nije recenziran, sažetak, znanstveni)
CROSBI ID: 8571 Za ispravke kontaktirajte CROSBI podršku putem web obrasca
Naslov
Nedestruktivna metoda elektrokemijske redukcije oksidnih slojeva formiranih na elektroničkim elementima
(Nondestructive Electrochemical Method for Reduction of Oxide Layers Formed on Electronic Circuits)
Autori
Omanović, Saša ; Metikoš-Huković, Mirjana
Vrsta, podvrsta i kategorija rada
Sažeci sa skupova, sažetak, znanstveni
Izvornik
XV. Hrvatski skup kemičara i kemijskih inženjera, Opatija, Sažeci, Abstracts, Vol. 2
/ M.Gojo ; N.Trajkov ; S.Smolec - : Hrvatsko društvo kemijskih inženjera i tehnologa (HDKI), 1997
Skup
XV. Hrvatski skup kemičara i kemijskih inženjera
Mjesto i datum
Opatija, Hrvatska, 24.03.1997. - 26.03.1997
Vrsta sudjelovanja
Poster
Vrsta recenzije
Nije recenziran
Ključne riječi
kositar; oksidi; procjena lemljivosti; stupnjevita elektrokemijska redukcijska analiza; kontrola kvalitete; kronopotenciometrija
(tin; oxides; solderability assessment; sequential electrochemical reduction analysis; quality control; chronopotentiometry)
Sažetak
Elektrokemijske metode redukcije površinskih oksida formiranih na kovinama i njihovim slitinama, koje se koriste u elektroničkim sklopovima (Cu, Sn, Pb, Ag i Au), omogućavaju nedestruktivno povećanje stupnja lemljivosti i mogu se primjeniti za bilo koju geometriju, uključujući žičane vodove štampanih pločica, preko rupa i izbočina. Podaci ukazuju da je formiranje površinskog Sn-oksida glavni uzrok degradacije lemljivosti. Ti podaci odnose se i na Pb-Sn površine na kojima dominira Sn-oksid.
Svrha ovog rada je studij mehanizma i kinetike reduktivne dekompozicije Sn-oksida in-situ metodama cikličke voltametrije, kronoamperometrije, kronopotenciometrije i elektrokemijske impedancijske spektroskopije, na stacionarnoj i rotirajućoj elektrodi, u citratnom puferu pH=6.0.
Spontanom i anodnom oksidacijom kositra dolazi do stvaranja dupleks strukture oksidnog filma. Utvrđeno je da se elektroredukcijom Sn-oksida in-situ može dobiti čista metalna površina. Mehanizam redukcije unutrašnjeg oksidnog filma jednoznačno je definiran, dok je mehanizam redukcije vanjskog oksidnog filma kom-pleksniji, i ne može se opisati jednostavnim mehanističkim i kinetičkim relacijama.
Izvorni jezik
Hrvatski
Znanstvena područja
Kemija
