Pregled bibliografske jedinice broj: 835668
Sklopovi bazirani na slojevitim 2D materijalima i njihovim heterostrukturama
Sklopovi bazirani na slojevitim 2D materijalima i njihovim heterostrukturama, 2016., diplomski rad, diplomski, Prirodoslovno-matematički fakultet, Zagreb
CROSBI ID: 835668 Za ispravke kontaktirajte CROSBI podršku putem web obrasca
Naslov
Sklopovi bazirani na slojevitim 2D materijalima i njihovim heterostrukturama
(Devices based on layered 2D materials and their heterostructures)
Autori
Radatović, Borna
Vrsta, podvrsta i kategorija rada
Ocjenski radovi, diplomski rad, diplomski
Fakultet
Prirodoslovno-matematički fakultet
Mjesto
Zagreb
Datum
30.09
Godina
2016
Stranica
56
Mentor
Kralj, Marko
Ključne riječi
dihalkogenidi prijelaznih metala; električni transport; litografija
(transition metal dichalcogenides; charge transport; litography)
Sažetak
Sagledavajući izazove napretka tehnologije izvjesno je da je silicijska tehnologija na zalasku svojih mogućnosti te da će u bliskoj budućnosti biti potrebno razviti nove materijale koji će svojim svojstvima kvalitetno odgovoriti na potrebe za daljnjim razvojem tehnologije. Jedan od odgovora na te izazove nudi grafen, koji predvodi čitavu klasu slojevitih 2D materijala. Uz niz prednosti, jedna od glavnih mana grafena je nedostatak procjepa između vodljive i valentne vrpce, što usmjerava intenzivna istraživanja prema 2D materijalima koji u intrinzičnom obliku, ili u medusobnim kombinacijama slojeva posjeduju poluvodički procjep pogodan za tehnologiju u elektroničkim i sličnim uredajima. Jedni od prvih kandidata u tom smislu su MoS2 i WS2 koji su zbog prvih obećavajućih rezultat mobilnosti i omjera struja paljenja/gaˇsenja Ion/Ioff>10^8, vrlo obečavajući. U ovome radu osmišljen je sistem izrade tranzistora na jednoslojnim strukturama MoS2 koristeći sjenaste maskirne folije obradene kratkim laserskim impulsima na mikro-skali. Takvim pristupom se izbjegava upotreba raznih polimera i kemikalija koji se u tradicionalnim poluvodičkim tehnologijama sustavno koriste za izradu tranzistora pomoću optičke ili elektronske litografije. U sklopu rada napravljena je vakuumska komora koja omogućuje transportna mjerenja na mikro-skali, ali prva mjerenja do sada sintetiziranih strukture MoS2 ukazuju na pojave proboja naboja prije postizanja struje paljenja zbog disipacije struje u sloj dielektrika koji je oslabio prilikom sinteze MoS 2. U radu je korišten i skenirajući tunelirajući mikroskopom sa 4 kontaktna vrška koji omogućuju mjerenja na nano- skali. Izmjerena je vodljivost gornjeg sloja (eng. sheet conductivity) sintetiziranih struktura MoS2 ∼ 10^−5 S/m2 . Varirajući parametar međusobne udaljenosti vrškova pokazana je očekivana 2D vodljivost. Mjerenja na ovom uredaju dodatno su omogućila uočavanje pukotina u MoS2 slojevima na mikro-skali, koje su vjerojatno nastale uslijed brzog hlađenja uzoraka nakon sinteze.
Izvorni jezik
Hrvatski
Znanstvena područja
Fizika
POVEZANOST RADA
Ustanove:
Institut za fiziku, Zagreb