Naslov
Utjecaj uvjeta depozicije na pojavu beta-faze u tankim filmovima volframa
(The effects of deposition conditions upon the occurence of beta-W phase in thin tungsten films)

Autori
Furlan, Andrej

Vrsta, podvrsta i kategorija rada
Ocjenski radovi, diplomski rad

Fakultet
Prirodoslovno-matematički fakultet

Mjesto
Zagreb

Datum
21.09

Godina
2001

Stranica
47

Mentor
Radić, Nikola

Ključne riječi
magnetronsko rasprašenje; tanki filmovi; volfram
(magnetron sputtering; thin films; tungsten)

Sažetak
U cilju određivanja uvjeta magnetronske depozicije volframskih tankih filmova pri kojima nastaje što manji udio beta-faze volframa u tankim filmovima, varirali smo slijedeće parametre depozicije: vrijeme depozicie (15-60 min), čemu je proporcionalna debljina filma, radni tlak magnetrona (0,7 - 2,8 Pa) i temperaturu podloge prilikom depozicije (LN2 - 250 degC).

Izvorni jezik
Hrvatski

Znanstvena područja
Fizika

POVEZANOST RADA