Naslov
Električna i strukturna svojstva neosvjetljenih tankih filmova od amorfno-nanokristaliničnog silicija
(Electrical and Structural Properties of Unilluminated Amorphous-Nanocrystalline Silicon Thin Films)

Autori
Tudić, Vladimir

Izvornik
Zbornik Veleučilišta u Karlovcu (1848-3038) 3 (2013), 1; 3-11

Vrsta, podvrsta i kategorija rada
Radovi u časopisima, izvorni znanstveni rad, ostalo

Ključne riječi
hidrogenizacija; HQD model; nano-kristali; Raman spektroskopija; tamna vodljivost
(dark conductivity; hydrogenation; HQD model; nano-crystals; Raman spectroscopy)

Sažetak
Proučena su električna i mikrostrukturna svojstva grupe hidrogeniziranih nano-kristaliničnih filmova (nc-Si:H) deponiranih na staklenom supstratu na niskim temperaturama poznatom metodom kemijskog nanošenja, odnosno radio-frekvencijskom depozicijom potpomognutu plazmom (RF-PECVD. Opisana je prosječna veličina kristalnih zrna, postotak kristaliničnosti XSC, podaci o tamnoj vodljivosti D ispitanoj pomoću Raman spektroskopije i spektroskopije električne vodljivosti. Zamijećeno je da se prosječna veličina kristalnih zrna, postotak kristaliničnosti i vrijednost električne vodljivosti mijenjaju slično i u skladu s promjenom temperature supstrata TS. Navedeni parametri koji karakteriziraju električna svojstva filma proračunati su korištenjem površinskog difuznog modela i modela kvantnih točki heterospojeva HQD (engl. Heterojunction Quantum Model). Utvrđene vrijednosti električne vodljivosti D neosvijetljenih nano-kristaliničnih filmova izrađenih od silicija više ovise o vrijednosti efektivne pokretljivosti nosilaca nego o efektivnoj vrijednosti koncentracije nosilaca.

Izvorni jezik
Hrvatski

Znanstvena područja
Fizika, Elektrotehnika, Temeljne tehničke znanosti

POVEZANOST RADA