Pregled bibliografske jedinice broj: 74311
Anodno ponašanje Al-In legure u otopini boratnog pufera
Anodno ponašanje Al-In legure u otopini boratnog pufera // XVII. hrvatski skup kemičara i kemijskih inženjera : sažetci / Vicković, I. (ur.).
Osijek: Hrvatsko društvo kemijskih inženjera i tehnologa (HDKI) ; Hrvatsko kemijsko drustvo, 2001. str. 131-131 (poster, nije recenziran, sažetak, znanstveni)
CROSBI ID: 74311 Za ispravke kontaktirajte CROSBI podršku putem web obrasca
Naslov
Anodno ponašanje Al-In legure u otopini boratnog pufera
(Anodic Behaviour of Al-In Alloy in Borate Buffer Solution)
Autori
Gudić, Senka ; Radošević, Jagoda ; Kliškić, Maja
Vrsta, podvrsta i kategorija rada
Sažeci sa skupova, sažetak, znanstveni
Izvornik
XVII. hrvatski skup kemičara i kemijskih inženjera : sažetci
/ Vicković, I. - Osijek : Hrvatsko društvo kemijskih inženjera i tehnologa (HDKI) ; Hrvatsko kemijsko drustvo, 2001, 131-131
Skup
XVII. hrvatski skup kemičara i kemijskih inženjera
Mjesto i datum
Osijek, Hrvatska, 10.06.2001. - 13.06.2001
Vrsta sudjelovanja
Poster
Vrsta recenzije
Nije recenziran
Ključne riječi
Al-In legura; oksidni film; mehanizam i kinetika rasta; elektrokemijska impedancijska spektroskopija
(Al-In alloy; oxide film; mechanism and kinetics of growth; electrochemical impedance spectroscopy)
Sažetak
Primjenom cikličke voltametrije i elektrokemijske impedancijske spektroskopije ispitani su mehanizam, kinetika rasta i svojstva oksidnih filmova na Al-In legurama (sa sadržajem In do 0.074 %) u otopini boratnog pufera (pH 7.8) pri 25oC. Ciklički voltamogrami snimani su u području potencijala od EOCP/1.2 V/-1.7 V/EOCP uz različite brzine promjene potencijala (od 20 do 100 mV s-1). Impedancijska mjerenja provedena su na potenciodinamički izgrađenim oksidnim filmovima (do potencijala u pasivnom području od 1.2 V uz različite brzine promjene potencijala). Po završetku anodizacije potencijal elektrode je vraćen na potencijal otvorenog strujnog kruga, gdje su, nakon stabilizacije (30 minuta) snimljeni impedancijski spektri. Ustanovljeno je da se rast oksidnih filmova na Al-In legurama zbiva ionskom vodljivošću pod djelovanjem visokog električnog polja. Određeni su kinetički parametri rasta oksida, ionska vodljivost, te poluširina barijere za prijenos iona kroz oksidni sloj. Mjerenjem impedancije dobiven je uvid u karakteristične veličine potenciodinamički formiranih oksidnih filmova. Predloženi su ekvivalentni krugovi koji u potpunosti oslikavaju ispitane sustave Al-In legura/oksidni film/elektrolit, te određene vrijednosti za pojedine elemente u krugu. Ustanovljeno je da debljina i otpor oksidnog filma raste porastom sadržaja indija u leguri. Nadalje, povećanje sadržaja In u leguri dovodi do porasta iskorištenja struje za formiranje oksidnog filma.
Izvorni jezik
Hrvatski
Znanstvena područja
Kemijsko inženjerstvo
