Pregled bibliografske jedinice broj: 74221
Studij rasta barijernog filma na volframu u otopini klorovodične kiseline
Studij rasta barijernog filma na volframu u otopini klorovodične kiseline // Zbornik radova, 2. Hrvatski simpozij o elektrokemiji / Gojo, Miroslav (ur.).
Zagreb: Hrvatsko društvo kemijskih inženjera i tehnologa (HDKI), 2001. str. 103-106 (predavanje, domaća recenzija, cjeloviti rad (in extenso), znanstveni)
CROSBI ID: 74221 Za ispravke kontaktirajte CROSBI podršku putem web obrasca
Naslov
Studij rasta barijernog filma na volframu u otopini klorovodične kiseline
(A study of the growth of a barrier film on tungsten in hydrochloric acid solution)
Autori
Grubač, Zoran ; Metikoš-Huković, Mirjana
Vrsta, podvrsta i kategorija rada
Radovi u zbornicima skupova, cjeloviti rad (in extenso), znanstveni
Izvornik
Zbornik radova, 2. Hrvatski simpozij o elektrokemiji
/ Gojo, Miroslav - Zagreb : Hrvatsko društvo kemijskih inženjera i tehnologa (HDKI), 2001, 103-106
Skup
2. Hrvatski simpozij o elektrokemiji
Mjesto i datum
Primošten, Hrvatska, 17.09.2001. - 20.09.2001
Vrsta sudjelovanja
Predavanje
Vrsta recenzije
Domaća recenzija
Ključne riječi
volfram; oksidni film; visoko polje; impedancijska spektroskopija
(tungsten; oxide film; high field; impedance spectroscopy)
Sažetak
Visoka korozijska otpornost volframa u korozivnom mediju kao što je 1,0 mol dm-3 otopina HCl pripisana je svojstvima oksidnog filma. Kvantitativni podaci o električkim, dielektričkim svojstvima tog filma, kinetičkim parametrima njegovog formiranja i rasta, u rasponu potencijala od 7 V, dobiveni su iz rezultata impedancijske spektroskopije.
Izvorni jezik
Hrvatski
Znanstvena područja
Kemija
