Pregled bibliografske jedinice broj: 62531
Volfram-karbid pripravljen reaktivnim rasprašenjem u magnetronu
Volfram-karbid pripravljen reaktivnim rasprašenjem u magnetronu // Strojarstvo : časopis za teoriju i praksu u strojarstvu, 38 (1996), 6; 235-244 (međunarodna recenzija, članak, znanstveni)
CROSBI ID: 62531 Za ispravke kontaktirajte CROSBI podršku putem web obrasca
Naslov
Volfram-karbid pripravljen reaktivnim rasprašenjem u magnetronu
(Tungsten carbide prepared by reactive DC magnetron sputtering)
Autori
Radić, Nikola ; Gržeta, Biserka ; Milat, Ognjen ; Ivkov, Jovica ; Stubičar, Mirko
Izvornik
Strojarstvo : časopis za teoriju i praksu u strojarstvu (0562-1887) 38
(1996), 6;
235-244
Vrsta, podvrsta i kategorija rada
Radovi u časopisima, članak, znanstveni
Ključne riječi
amorfni materijali ; magnetronsko rasprašenje ; tanki filmovi ; volfram-karbid
(amorphous materials ; magnetron sputtering ; thin films ; tungsten carbide)
Sažetak
Tanki filmovi volfram karbida pripravljeni su reaktivnim (Ar + C6H6) rasprašenjem u cilindričnom magnetronu s istosmjernim naponom, s katodom od čistog volframa, na podloge debljine 0, 5 mm od stakla, monokristalnog silicija, tantala, nehrđajućeg čelika, te na folije bakra i zlata debljine reda veličine mikrometra. Uzorci pripravljeni pri sobnoj temperaturi su amorfni, sastava od W2C do WC1-x, osim na folijama bakra i zlata gdje su nanokristalni (veličine zrna 2, 9 nm). Amorfni volfram karbid stabilan je do oko 1470K. Mikrotvrdoća amorfnog filma W2C je ispod očekivane vrijednosti ; rezultati su protumačeni ugradnjom slobodnog ugljika ili ugljikovodičnih fragmenata u sloj volfram karbida.
Izvorni jezik
Engleski
Znanstvena područja
Fizika, Kemija
POVEZANOST RADA
Ustanove:
Institut za fiziku, Zagreb,
Institut "Ruđer Bošković", Zagreb
Profili:
Nikola Radić
(autor)
Ognjen Milat
(autor)
Mirko Stubičar
(autor)
Jovica Ivkov
(autor)
Biserka Gržeta
(autor)
Citiraj ovu publikaciju:
Časopis indeksira:
- Web of Science Core Collection (WoSCC)
- Science Citation Index Expanded (SCI-EXP)
- SCI-EXP, SSCI i/ili A&HCI
- Scopus