Pregled bibliografske jedinice broj: 53590
Studij oksidnih filmova na Al i Al-In leguri primjenom cikličke voltametrije
Studij oksidnih filmova na Al i Al-In leguri primjenom cikličke voltametrije, 2000., diplomski rad, Kemijsko-tehnološki fakultet u Splitu, Split
CROSBI ID: 53590 Za ispravke kontaktirajte CROSBI podršku putem web obrasca
Naslov
Studij oksidnih filmova na Al i Al-In leguri
primjenom cikličke voltametrije
(Study of oxide films on Al and Al-Sn alloy by
cyclic voltammetry)
Autori
Orlandini, Ivana
Vrsta, podvrsta i kategorija rada
Ocjenski radovi, diplomski rad
Fakultet
Kemijsko-tehnološki fakultet u Splitu
Mjesto
Split
Datum
26.10
Godina
2000
Stranica
66
Mentor
Gudić, Senka
Ključne riječi
aluminij; Al-In legura; oksidni film; mehanizam i kinetika rasta
(aluminium; Al-In alloy; oxide film; mechanism and kinetics of growth)
Sažetak
Metodom cikličke voltametrije ispitan je utjecaj
različitog sadržaja indija (0.02 %, 0.037 % i
0.74 %) na mehanizam i kinetiku rasta oksidnih
filmova na Al u otopini boratnog pufera pH=7.8 u
uvjetima potenciodinamičke anodizacije.
Ustanovljeno je da se rast oksidnih filmova na Al
i Al-In legurama zbiva aktivacijski kontroliranom
ionskom vodljivošću pod utjecajem jakog
električnog polja, prema eksponencijalnom zakonu
za ventilne metale. Određeni su kinetički
parametri rasta oksida, A i B, ionska vodljivost
kroz oksidni sloj, (AB), te poluširina barijere
za prijenos iona kroz oksidni sloj. U uvjetima
potenciodinamičke anodizacije, legura s najnižim
sadržajem indija ponaša se slično kao i
superčisti aluminij.
Izvorni jezik
Hrvatski
Znanstvena područja
Kemijsko inženjerstvo
POVEZANOST RADA