Pregled bibliografske jedinice broj: 50884
Kinetika rasta i karakterizacija oksidnih filmova na titanu i titanovim slitinama
Kinetika rasta i karakterizacija oksidnih filmova na titanu i titanovim slitinama, 2000., diplomski rad, Fakultet kemijskog inženjerstva i tehnologije, Zagreb
CROSBI ID: 50884 Za ispravke kontaktirajte CROSBI podršku putem web obrasca
Naslov
Kinetika rasta i karakterizacija oksidnih filmova na titanu i titanovim slitinama
(Growth kinetics and characterization of oxide films on titanium and titanium alloys)
Autori
Briški, Natalija
Vrsta, podvrsta i kategorija rada
Ocjenski radovi, diplomski rad
Fakultet
Fakultet kemijskog inženjerstva i tehnologije
Mjesto
Zagreb
Datum
30.06
Godina
2000
Stranica
48
Mentor
Metikoš - Huković, Mirjana
Neposredni voditelj
Metikoš - Huković, Mirjana
Ključne riječi
titan; Ti6Al6Nb; Ti6Al4V; anodni oksidni filmovi; kinetika rasta; ionska vodljivost; električka i dielektrička svojstva; kronopotenciometrija; elektrokemijska impedancijska spektroskopija
(titanium; Ti6Al6Nb; Ti6Al4V; anodic oxide films; growth kinetics; ionic conductivity; electric and dielectric properties; chronopotentiometry; electrochemical impedance spectroscopy)
Sažetak
Istraživane su in situ modificirane površine važnih inženjerskih materijala titana, Ti6Al4V i Ti6Al6Nb. Titan i njegove slitine pored izuzetnih mehaničkih svojstava temeljenih na njihovoj mikrostrukturi posjeduju i izvanrednu kemijsku stabilnost u realnom biookolišu, temeljenu na nastajanju površinskih oksidnih filmova nanometarske debljine, koji za redove veličina smanjuju difuziju metalnih iona u biookoliš.
Cilj rada bio je modificirati površine titana i Ti-slitina in situ izgrađenim oksidnim filmovima debljine nekoliko desetaka nanometara, sa svrhom istraživanja: a) mehanizma i kinetike izgradnje oksidnih filmova u fosfatnom puferu, pH = 7, b) električkih i dielektričkih svojstava tih filmova impedancijskom spektroskopijom.
Nađeno je da se mehanizam rasta barijernih filmova na titanu i njegovim slitinama odvija prema zakonu viskog polja. Određeni su kinetički parametri rasta: brzina formiranja, specifična brzina formiranja, koeficijent anodizacije, jakost električnog polja u rastućem sloju, visina i poluširina energetske barijere za ionski skok. Udio ionske i elektronske vodljivosti kao i debljine filmova analizirane su na osnovi impedancijske spektroskopije putem usklađivanja rezultata frekvencijske ovisnosti impedancije s teorijskom funkcijom predloženog električnog ekvivalentnog kruga.
Izvorni jezik
Hrvatski
Znanstvena područja
Kemija
POVEZANOST RADA
Projekti:
125011
Ustanove:
Fakultet kemijskog inženjerstva i tehnologije, Zagreb
Profili:
Mirjana Metikoš-Huković
(mentor)