Pregled bibliografske jedinice broj: 507568
Tehnologija tankih oksidnih filmova
Tehnologija tankih oksidnih filmova // XIV. skup hrvatskih kemičara
Zagreb, Hrvatska, 1995. str. 90-90 (poster, domaća recenzija, sažetak, znanstveni)
CROSBI ID: 507568 Za ispravke kontaktirajte CROSBI podršku putem web obrasca
Naslov
Tehnologija tankih oksidnih filmova
(Thin oxide films technology)
Autori
Grubač, Zoran ; Metikoš-Huković, Mirjana
Vrsta, podvrsta i kategorija rada
Sažeci sa skupova, sažetak, znanstveni
Izvornik
XIV. skup hrvatskih kemičara
/ - , 1995, 90-90
Skup
XIV. skup hrvatskih kemičara
Mjesto i datum
Zagreb, Hrvatska, 06.02.1995. - 08.02.1995
Vrsta sudjelovanja
Poster
Vrsta recenzije
Domaća recenzija
Ključne riječi
oksidni filmovi; ventilni metali; bizmut; rast filma
(oxide films; valve metals; bismuth; oxide growth)
Sažetak
Spontano nastali oksidni filmovi na ventilnim metalima propuštaju elektronsku struju u katodnom smjeru. U anodnoj polarizaciji elektronska struja je zanemarivo mala što omogućava rast barijernog filma ionskom vodljivosti. Anodizacijom formirani oksidni filmovi imaju karakteristike poluvodičkih dielektrika koji se široko primijenjuju u elektroničkoj industriji, zađštiti od korozije ili u dekorativne svrhe.
Izvorni jezik
Hrvatski
Znanstvena područja
Kemija
