Pregled bibliografske jedinice broj: 507380
STUDIJ RASTA BARIJERNOG FILMA NA VOLFRAMU U OTOPINI KLOROVODICNE KISELINE
STUDIJ RASTA BARIJERNOG FILMA NA VOLFRAMU U OTOPINI KLOROVODICNE KISELINE // 2th Croatian Symposium on Electrochemistry
Primošten, Hrvatska, 2001. str. 103-103 (poster, domaća recenzija, sažetak, znanstveni)
CROSBI ID: 507380 Za ispravke kontaktirajte CROSBI podršku putem web obrasca
Naslov
STUDIJ RASTA BARIJERNOG FILMA NA VOLFRAMU U OTOPINI KLOROVODICNE KISELINE
(A STUDY OF THE GROWTH OF A BARRIER FILM ON TUNGSTEN IN HYDROCHLORIC ACID SOLUTION)
Autori
Grubač, Zoran ; Metikoš-Huković, Mirjana
Vrsta, podvrsta i kategorija rada
Sažeci sa skupova, sažetak, znanstveni
Izvornik
2th Croatian Symposium on Electrochemistry
/ - , 2001, 103-103
Skup
2th Croatian Symposium on Electrochemistry
Mjesto i datum
Primošten, Hrvatska, 17.09.2001. - 20.09.2001
Vrsta sudjelovanja
Poster
Vrsta recenzije
Domaća recenzija
Ključne riječi
volfram; oksidni film; visoko polje; impedancijska spektroskopija
(wolframe; oxide film; high field; impedance spectroscopy)
Sažetak
Visoka korozijska otpornost volframa u korozivnom mediju kao što je 1.0 mol dm-3 otopina HCl pripisana je svojstvima oksidnog filma. Kvantitativni podaci o elektrickim, dielektrickim svojstvima tog filma, kinetickim parametrima njegovog formiranja i rasta, u rasponu potencijala od 7 V, dobiveni su iz rezultata impedancijske spektroskopije.
Izvorni jezik
Hrvatski
Znanstvena područja
Kemija
