Naslov
Rast oksidnih filmova na Al, Al-In i Al-In-Sn slitinama u otopini boratnog pufera u uvjetima galvanostatske anodizacije
(Oxide films growth on Al, Al-In and Al-In-Sn alloys in a borate buffer solution in conditions of galvanostatic anodising)

Autori
Gudić, Senka ; Smoljko, Ivana ; Tomelić Milijana

Vrsta, podvrsta i kategorija rada
Radovi u zbornicima skupova, cjeloviti rad (in extenso), znanstveni

Izvornik
Zbornik radova MATRIB 2010 / Schauperl, Zdravko ; Šnajdar, Mateja - Zagreb : Hrvatsko društvo za materijale i tribologiju (HDMT), 2010, 137-143

ISBN
978-953-7040-18-5

Skup
MATRIB 2010

Mjesto i datum
Vela Luka, Hrvatska, 23.06.2010. - 25.06.2010

Vrsta sudjelovanja
Poster

Vrsta recenzije
Međunarodna recenzija

Ključne riječi
aluminij ; aluminijske slitine ; galvanostatska anodizacija ; oksidni film.
(aluminium ; aluminium alloys ; galvanostatic anodization ; oxide film.)

Sažetak
U radu su ispitani mehanizam i kinetika rasta oksidnih filmova na Al te na Al-Sn i Al-In slitinama u otopini boratnog pufera (pH 7.8) u uvjetima galvanostatske anodizacije kod različitih gustoća struje 20 – 100 µA cm -2 . Dobiveni potencijal-vrijeme odgovori ukazuju da se rast oksidnih filmova na ispitivanim uzorcima zbiva aktivacijski kontroliranom ionskom vodljivošću pod utjecajem jakog električnog polja kroz oksidni film, prema eksponencijalnom zakonu za ventilne metale. Elektrolitički parametri rasta oksida, konstante A i B, kao i ionska vodljivost kroz oksidni film opadaju redom: Al > Al-Sn > Al-In. Dobiveni iznosi širina energetskih barijera Al i njegovih slitina ukazuju na nesmetan prijenos iona između susjednih mjesta pod djelovanjem visokog električnog polja. Određena je jakost električnog polja kroz okside, a dobivena vrijednost reda veličine MV cm -1 opravdava primjenu mehanizma “aproksimacije visokog polja”.

Izvorni jezik
Hrvatski

Znanstvena područja
Kemijsko inženjerstvo

POVEZANOST RADA