Pregled bibliografske jedinice broj: 48591
Površinske reakcije silicijeva nitrida u vodenom i nevodenom mediju (magistarski rad)
Površinske reakcije silicijeva nitrida u vodenom i nevodenom mediju (magistarski rad), 2000., magistarski rad, Prirodoslovno-matematički fakultet, Zagreb
CROSBI ID: 48591 Za ispravke kontaktirajte CROSBI podršku putem web obrasca
Naslov
Površinske reakcije silicijeva nitrida u vodenom i nevodenom mediju (magistarski rad)
(Surface Reactions of Silicon Nitride in Aqueous and Non-aqueous Medium)
Autori
Smolić, Tomislav
Vrsta, podvrsta i kategorija rada
Ocjenski radovi, magistarski rad
Fakultet
Prirodoslovno-matematički fakultet
Mjesto
Zagreb
Datum
11.02
Godina
2000
Stranica
104
Mentor
Kallay, Nikola
Ključne riječi
silicijev nitrid; izoelektrična točka; točka nul naboja; nevodeni medij; adhezija
(Silicon nitride; Isoelectric point. Point of Zero Charge; Non-aqueous medium; Adhesion)
Sažetak
Razvijen je teorijski model električkog međupovršinskog sloja zasnovan na modelu površinskih reakcije za heterogenu površinu s dva tipa površinskih skupina, silanolne (SiOH) i silazanske (Si2NH). Iz temperaturne ovisnosti točke nul-naboja određene su standardne entalpije deprotonacije silanolnih i protonacije silazanskih skupina pri čemu je toča nul naboja određena metodom masene titracije. Izoelektrična točke vodene suspenzije određena je metodom elektroforetskog raspršenja svjetla, metodom optičke elektroforeze i adhezijskom metodom.
Izvorni jezik
Hrvatski
Znanstvena područja
Kemija
