Naslov
Karakteristike FinFET struktura s ultra tankim tijelom pod utjecajem naprezanja
(Characteristics of ultra-thin body FinFET structures under the influence of stress)

Autori
Knežević, Tihomir

Vrsta, podvrsta i kategorija rada
Ocjenski radovi, diplomski rad

Fakultet
Fakultet elektrotehnike i računarstva

Mjesto
Zagreb

Datum
16.07

Godina
2009

Stranica
134

Mentor
Suligoj, Tomislav

Neposredni voditelj
Poljak, Mirko

Ključne riječi
FinFET; ultratanko tijelo; naprezanje
(FinFET; ultra-thin body; stress)

Sažetak
Promjena tehnoloških i geometrijskih parametara poput intrinzičnog stresa u deponiranim slojevima, temperature oksidacije, širine i visine fina kod procesiranja FinFET strukture djeluje na promjenu raspodjele stresa u tijelu FinFET-a. Kod širih finova postoje veće mogućnosti promjene raspodjele stresa uslijed utjecaja šireg tijela fina. Analiziran je utjecaj stresa na električke karakteristike u strukturi nakon standardnih koraka procesiranja, te je razmotren utjecaj optimalnih tehnoloških i geometrijskih parametara. Uz standardne parametre dobije se povećanje ION struje uz utjecaj stresa u odnosu na struju bez stresa za nMOS oko 7%, a za pMOS oko 5%. Uz optimalne geometrijske i tehnološke parametre može se dobiti povećanje struje od 33% za nMOS i 23% za pMOS tranzistore.

Izvorni jezik
Hrvatski

Znanstvena područja
Elektrotehnika

POVEZANOST RADA