Pretraga

Pretražite po imenu i prezimenu autora, mentora, urednika, prevoditelja

Napredna pretraga

Pregled bibliografske jedinice broj: 397921

Low pressure chemical vapor deposition of thin SiOx films in oxygen and nitrogen atmospheres

Vilman, Viktor; Ristić, Davor; Ivanda, Mile; Biljanović, Petar; Gamulin, Ozren; Furić, Krešimir; Ristić, Mira; Musić, Svetozar
Low pressure chemical vapor deposition of thin SiOx films in oxygen and nitrogen atmospheres // Proceedings of 32nd International Convention MIPRO 2009 / Biljanović, Petar ; Skala, Karolj (ur.).
Rijeka: Hrvatska udruga za informacijsku i komunikacijsku tehnologiju, elektroniku i mikroelektroniku - MIPRO, 2009. str. 41-45 (predavanje, međunarodna recenzija, cjeloviti rad (in extenso), znanstveni)

CROSBI ID: 397921 Za ispravke kontaktirajte CROSBI podršku putem web obrasca

Naslov
Low pressure chemical vapor deposition of thin SiOx films in oxygen and nitrogen atmospheres

Autori
Vilman, Viktor ; Ristić, Davor ; Ivanda, Mile ; Biljanović, Petar ; Gamulin, Ozren ; Furić, Krešimir ; Ristić, Mira ; Musić, Svetozar

Vrsta, podvrsta i kategorija rada
Radovi u zbornicima skupova, cjeloviti rad (in extenso), znanstveni

Izvornik
Proceedings of 32nd International Convention MIPRO 2009 / Biljanović, Petar ; Skala, Karolj - Rijeka : Hrvatska udruga za informacijsku i komunikacijsku tehnologiju, elektroniku i mikroelektroniku - MIPRO, 2009, 41-45

ISBN
978-953-233-044-1

Skup
32nd International Convention MIPRO 2009

Mjesto i datum
Opatija, Hrvatska, 25.05.2009. - 29.05.2009

Vrsta sudjelovanja
Predavanje

Vrsta recenzije
Međunarodna recenzija

Ključne riječi
LPCVD; silicon rich oxide; oxygen atmosphere; nitrogen atmosphere

Sažetak
The silicon rich oxide (SiOx) thin films were prepared in the LPCVD reactor, by thermal oxidation of silane in oxygen atmosphere and in nitrous oxide atmosphere. The stechiometry coefficient x was controlled by the substrate temperature and the ratio of the partial pressures of silane and oxidants O2 and N2O. The structural and optical properties of prepared SiOx films were analyzed by infrared spectroscopy, Raman spectroscopy and scanning electron microscopy.

Izvorni jezik
Engleski

Znanstvena područja
Fizika



POVEZANOST RADA

Projekti:
098-0982904-2898 - Fizika i primjena nanostruktura i volumne tvari (Ivanda, Mile, MZOS ) ( CroRIS)
098-0982904-2952 - Sinteza i mikrostruktura metalnih oksida i oksidnih stakala (Ristić, Mira, MZOS ) ( CroRIS)
036-0982904-1642 - Sofisticirane poluvodičke strukture za komunikacijsku tehnologiju (Koričić, Marko, MZO ) ( CroRIS)

Ustanove:
Fakultet elektrotehnike i računarstva, Zagreb,
Institut "Ruđer Bošković", Zagreb

Profili:

Avatar Url Petar Biljanović (autor)

Avatar Url Ozren Gamulin (autor)

Avatar Url Davor Ristić (autor)

Avatar Url Mile Ivanda (autor)

Avatar Url Mira Ristić (autor)

Avatar Url Krešimir Furić (autor)

Citiraj ovu publikaciju:

Vilman, Viktor; Ristić, Davor; Ivanda, Mile; Biljanović, Petar; Gamulin, Ozren; Furić, Krešimir; Ristić, Mira; Musić, Svetozar
Low pressure chemical vapor deposition of thin SiOx films in oxygen and nitrogen atmospheres // Proceedings of 32nd International Convention MIPRO 2009 / Biljanović, Petar ; Skala, Karolj (ur.).
Rijeka: Hrvatska udruga za informacijsku i komunikacijsku tehnologiju, elektroniku i mikroelektroniku - MIPRO, 2009. str. 41-45 (predavanje, međunarodna recenzija, cjeloviti rad (in extenso), znanstveni)
Vilman, V., Ristić, D., Ivanda, M., Biljanović, P., Gamulin, O., Furić, K., Ristić, M. & Musić, S. (2009) Low pressure chemical vapor deposition of thin SiOx films in oxygen and nitrogen atmospheres. U: Biljanović, P. & Skala, K. (ur.)Proceedings of 32nd International Convention MIPRO 2009.
@article{article, author = {Vilman, Viktor and Risti\'{c}, Davor and Ivanda, Mile and Biljanovi\'{c}, Petar and Gamulin, Ozren and Furi\'{c}, Kre\v{s}imir and Risti\'{c}, Mira and Musi\'{c}, Svetozar}, year = {2009}, pages = {41-45}, keywords = {LPCVD, silicon rich oxide, oxygen atmosphere, nitrogen atmosphere}, isbn = {978-953-233-044-1}, title = {Low pressure chemical vapor deposition of thin SiOx films in oxygen and nitrogen atmospheres}, keyword = {LPCVD, silicon rich oxide, oxygen atmosphere, nitrogen atmosphere}, publisher = {Hrvatska udruga za informacijsku i komunikacijsku tehnologiju, elektroniku i mikroelektroniku - MIPRO}, publisherplace = {Opatija, Hrvatska} }
@article{article, author = {Vilman, Viktor and Risti\'{c}, Davor and Ivanda, Mile and Biljanovi\'{c}, Petar and Gamulin, Ozren and Furi\'{c}, Kre\v{s}imir and Risti\'{c}, Mira and Musi\'{c}, Svetozar}, year = {2009}, pages = {41-45}, keywords = {LPCVD, silicon rich oxide, oxygen atmosphere, nitrogen atmosphere}, isbn = {978-953-233-044-1}, title = {Low pressure chemical vapor deposition of thin SiOx films in oxygen and nitrogen atmospheres}, keyword = {LPCVD, silicon rich oxide, oxygen atmosphere, nitrogen atmosphere}, publisher = {Hrvatska udruga za informacijsku i komunikacijsku tehnologiju, elektroniku i mikroelektroniku - MIPRO}, publisherplace = {Opatija, Hrvatska} }

Podijeli:





Contrast
Increase Font
Decrease Font
Dyslexic Font
CROSBI koristi kolačiće (cookies) kako bi poboljšao funkcionalnost stranice.