Pregled bibliografske jedinice broj: 263410
Plasma capillary source
Plasma capillary source // EUV Sources for Lithography / Bakshi, Vivek (ur.).
Bellingham (WA): SPIE Optical Engineering Press, 2006. str. 523-534
CROSBI ID: 263410 Za ispravke kontaktirajte CROSBI podršku putem web obrasca
Naslov
Plasma capillary source
Autori
Andreić, Željko ; Ellwi, S. ; Kunze, H.-J.
Vrsta, podvrsta i kategorija rada
Poglavlja u knjigama, znanstveni
Knjiga
EUV Sources for Lithography
Urednik/ci
Bakshi, Vivek
Izdavač
SPIE Optical Engineering Press
Grad
Bellingham (WA)
Godina
2006
Raspon stranica
523-534
ISBN
0819458457
Ključne riječi
EUV radiation source, plasma capillary source
Sažetak
Revijalni prikaz kapilarnih izvora EUV zračenja.
Izvorni jezik
Engleski
Znanstvena područja
Fizika
POVEZANOST RADA
Projekti:
0195052
Ustanove:
Rudarsko-geološko-naftni fakultet, Zagreb
Profili:
Željko Andreić
(autor)