Pregled bibliografske jedinice broj: 25335
Primjena kositra u industriji: uloga tankih površinskih filmova
Primjena kositra u industriji: uloga tankih površinskih filmova // Zbornik radova 9. Ružičkini dani / Bošnjak, Marijan ; Janović, Zvonimir ; Vasić-Rački, Đurđa (ur.).
Zagreb: Hrvatsko društvo kemijskih inženjera i tehnologa (HDKI), 1998. (poster, nije recenziran, sažetak, znanstveni)
CROSBI ID: 25335 Za ispravke kontaktirajte CROSBI podršku putem web obrasca
Naslov
Primjena kositra u industriji: uloga tankih površinskih filmova
(Application of tin in industry: The role of thin surface films)
Autori
Jukić, Ante ; Metikoš-Huković, Mirjana
Vrsta, podvrsta i kategorija rada
Sažeci sa skupova, sažetak, znanstveni
Izvornik
Zbornik radova 9. Ružičkini dani
/ Bošnjak, Marijan ; Janović, Zvonimir ; Vasić-Rački, Đurđa - Zagreb : Hrvatsko društvo kemijskih inženjera i tehnologa (HDKI), 1998
Skup
9. Ružičkini dani
Mjesto i datum
Vukovar, Hrvatska, 18.06.1998. - 19.06.1998
Vrsta sudjelovanja
Poster
Vrsta recenzije
Nije recenziran
Ključne riječi
kositar; oksidni filmovi; korozija; tiskane pločice; ambalažni materijal
(tin; oxide films; corrosion; printed tablets; package material)
Sažetak
Svrha rada bila je istražiti elektrokemijsko ponašanje kositra u dva važna primjera njegove primjene, u prehrambenoj i elektroničkoj industriji. Primjena kositra u prehrambenoj industriji (izrada kontejnera od pokositrenog čeličnog lima) temelji se na njegovoj visokoj korozijskoj stabilnosti, koja je rezultat prisutnosti spontano nastalih oksidnih filmova. U elektroničkim sklopovima ovi filmovi, naprotiv, imaju negativan utjecaj na procese lemljenja u reljefnoj tehnologiji.
Čvrstofazni oksidacijsko-redukcijski procesi, s posebnim naglaskom na nukleacijske procese tijekom faznih pretvorbi, studirani su elektrokemijskim tehnikama, u citratnom, pH=6 i boratnom puferu, pH=8 (uvjeti najveće termodinamičke stabilnosti oksidnog filma).
Anodnom oksidacijom nastali površinski film kositar(IV)oksida, poluvodič je n-tipa sa širinom zabranjene zone od 2.6 eV, što rezultira izuzetnom stabilnosti ovog materijala, ne samo prema anodnoj nego i prema katodnoj dekompoziciji.
Koristeći pristup i relacije razvijene kroz studij kemijske stabilnosti monokristalnih poluvodičkih spojeva i strujne tranzijente u bezdimenzijskom obliku, dobiveno je da nukleacija Sn-metala u matrici Sn(IV)-oksida slijedi model 2D trenutne kinetički kontrolirane nukleacije. Pokazan je veoma visoki stupanj primjenjivosti teorijskih nukleacijskih modela na ispitivani sustav.
Izvorni jezik
Hrvatski
Znanstvena područja
Kemija
