Pregled bibliografske jedinice broj: 1966
Smanjenje hrapavosti površine silicijevih monokristala kemijskim poliranjem
Smanjenje hrapavosti površine silicijevih monokristala kemijskim poliranjem // Sažeci XV. hrvatskog skupa kemičara i kemijskih inženjera / Gojo, Miroslav ; Trajkov, Nada ; Smolec, Sonja (ur.).
Opatija: X-press, 1997. str. 48-48 (poster, nije recenziran, sažetak, znanstveni)
CROSBI ID: 1966 Za ispravke kontaktirajte CROSBI podršku putem web obrasca
Naslov
Smanjenje hrapavosti površine silicijevih monokristala kemijskim poliranjem
(The Smoothing of the Surface of the Si-monocrystals by Chemical Polishing)
Autori
Bronić, Josip ; Becker, Peter ;
Vrsta, podvrsta i kategorija rada
Sažeci sa skupova, sažetak, znanstveni
Izvornik
Sažeci XV. hrvatskog skupa kemičara i kemijskih inženjera
/ Gojo, Miroslav ; Trajkov, Nada ; Smolec, Sonja - Opatija : X-press, 1997, 48-48
Skup
XV. Hrvatski skup kemičara i kemijskih inženjera
Mjesto i datum
Opatija, Hrvatska, 24.03.1997. - 26.03.1997
Vrsta sudjelovanja
Poster
Vrsta recenzije
Nije recenziran
Ključne riječi
kemijsko poliranje; silicij
(chemical polishing; silicon)
Sažetak
Mehanicko poliranje uzorka ponekad nije odgovarajuce, bilo zbog nedostupnosti površine ili zbog dodatnih poremecaja strukture ispod površine (npr. kod rendgenskih interferometara), pa je kemijsko poliranje neizbjezno. Poznate su razne otopine za poliranje, a samo nekoliko njih moze dati glatku površinu, kao što je HF-HNO3 sustav. Masa, dimenzije i hrapavost površine uzorka mjereni su prije i nakon poliranja. Istrazivan je utjecaj kemijskog sastava, pocetne temperature i volumena polirajuce smjese na kvalitetu površine.
Izvorni jezik
Hrvatski
Znanstvena područja
Kemija
POVEZANOST RADA
