Pregled bibliografske jedinice broj: 19124
Elektrokemijska impedancija aluminija u limunskoj kiselini
Elektrokemijska impedancija aluminija u limunskoj kiselini // XVI. Hrvatski skup kemičara i kemijskih inženjera, Sažeci / Kurtanjek, Želimir ; Škare, Danko ; Meić, Zlatko (ur.).
Zagreb: Hrvatsko društvo kemijskih inženjera i tehnologa (HDKI), 1999. (poster, domaća recenzija, sažetak, znanstveni)
CROSBI ID: 19124 Za ispravke kontaktirajte CROSBI podršku putem web obrasca
Naslov
Elektrokemijska impedancija aluminija u limunskoj kiselini
(Electrochemical impedance of aluminium in citric acid)
Autori
Hasenay, Damir ; Šeruga, Marijan
Vrsta, podvrsta i kategorija rada
Sažeci sa skupova, sažetak, znanstveni
Izvornik
XVI. Hrvatski skup kemičara i kemijskih inženjera, Sažeci
/ Kurtanjek, Želimir ; Škare, Danko ; Meić, Zlatko - Zagreb : Hrvatsko društvo kemijskih inženjera i tehnologa (HDKI), 1999
Skup
XVI. Hrvatski skup kemičara i kemijskih inženjera
Mjesto i datum
Split, Hrvatska, 23.02.1999. - 26.02.1999
Vrsta sudjelovanja
Poster
Vrsta recenzije
Domaća recenzija
Ključne riječi
elektrokemijska impedancija; aluminij; limunska kiselina
(electrochemical impedance; aluminium; citric acid)
Sažetak
Istraživana su elektrokemijska i površinska svojstva aluminija visoke čistoće (99.999 %) prekrivenog tankim oksidnim filmom, u otopini limunske kiseline (c = 0.05 mol dm-3, pH = 4-8), primjenom elektrokemijske impedancijske spektroskopije (EIS) u širokom području frekvencija (500 mHz - 100 kHz). Za mjerenja je korišten EG&G PAR potenciostat/galvanostat Model 273A i EG&G PAR Lock-In pojačalo Model 5310, kontrolirani pomoću računala. Elektrokemijska i povr{inska svojstva Al u ispitivanim otopinama limunske kiseline bitno su određena samim prisustvom, ali i svojstvima tankog oksidnog filma barijernog tipa, formiranog na njegovoj površini. Također na ukupno ponašanje sustava utjecaj ima i hidratizacija veze aluminij-kisik, te naknadna disocijacija površinskih -OH grupa što dovodi do mogućnosti odvijanja raznih površinskih procesa kao što su adsorpcija i površinsko kompleksiranje.
Rezultati analize impedancijskih mjerenja pokazali su da je impedancija sustava karakterizirana pojavom visokofrekventnog kapacitivnog ponašanja, te niskofrekventnog induktivnog ponašanja. Kapacitivno ponašanje treba pripisati procesu formiranja i rasta oksidnog filma na Al kao i dielektričnim svojstvima tog filma. Pojavu induktivnog ponašanja vjerojatno treba pripisati relaksacijskim efektima adsorpcijskih procesa na granici faza oksidni film/otopina limunske kiseline, ali i dielektričnim relaksacijama unutar filma. Iz eksperimentalnih podataka upotrebom odgovarajućeg ekvivalentnog kruga odre|ene su vrijednost polarizacijskih otpora (Rp), kapaciteta (C) i induktiviteta (L) u ovisnosti o potencijalu anodizacije i o pH otopine limunske kiseline.
Izvorni jezik
Hrvatski
