Pregled bibliografske jedinice broj: 111978
Utjecaj potencijala pasivacije na svojstva oksidnih filmova na Al-In slitinama u otopini boratnog pufera
Utjecaj potencijala pasivacije na svojstva oksidnih filmova na Al-In slitinama u otopini boratnog pufera // 2. Dan Elektrokemije - Sažeci / Gojo, Miroslav (ur.).
Zagreb: Hrvatsko društvo kemijskih inženjera i tehnologa (HDKI), 2003. str. 44-45 (poster, nije recenziran, sažetak, znanstveni)
CROSBI ID: 111978 Za ispravke kontaktirajte CROSBI podršku putem web obrasca
Naslov
Utjecaj potencijala pasivacije na svojstva oksidnih filmova na Al-In slitinama u otopini boratnog pufera
(Influence of Passivation Potential on Properties of Oxide Films on Al-In Alloys in Borate Buffer Solution)
Autori
Gudić, Senka ; Radošević, Jagoda ; Kliškić, Maja
Vrsta, podvrsta i kategorija rada
Sažeci sa skupova, sažetak, znanstveni
Izvornik
2. Dan Elektrokemije - Sažeci
/ Gojo, Miroslav - Zagreb : Hrvatsko društvo kemijskih inženjera i tehnologa (HDKI), 2003, 44-45
Skup
2. Dan Elektrokemije
Mjesto i datum
Hrvatska, 06.06.2003
Vrsta sudjelovanja
Poster
Vrsta recenzije
Nije recenziran
Ključne riječi
Aluminij; Al-In slitina; Oksidni film; Iskorištenje struje
(aluminium; Al-In alloy; oxide film; current efficiency)
Sažetak
U ovom radu ispitan je rast i svojstva oksidnih filmova na Al-In slitinama (s 0.020%, 0.037% i 0.074% In) u otopini boratnog pufera (pH 7.8) pri potenciostatskim uvjetima anodizacije. Anodizacija je provedena kod različitih potencijala pasivacije (od 0.0 V do 2.4 V) kroz vrijeme od 1 sata. Snimani su struja&#8211 ; vrijeme odgovori, određena je količina naboja koja se utroši u procesu anodizacije te izračunata debljina oksidnog filma. Pri određivanju električnih i dielektričnih svojstava anodno formiranih filmova korištena je elektrokemijska impedancijska spektroskopija. Predložen je ekvivalentni krug koji u potpunosti oslikava ispitani sustav Al-In slitina / oksidni film / elektrolit. Matematičkim usklađivanjem impedancijskog spektra s predloženim ekvivalentnim krugom određene su karakteristične veličine oksidnih filmova kao što su otpor, kapacitet i debljina. Ustanovljeno je da debljina i otpor oksidnog filma na Al-In slitinama rastu linearno porastom potencijala pasivacije. Oksidni filmovi na slitinama s većim sadržajem indija pokazuju bolja zaštitna svojstva (veći otpor, veća debljina) u odnosu na čisti aluminij. Nadalje, električno polje kroz oksidne slojeve na Al i Al-In slitinama je reda veličine MV cm-1 i lagano opada porastom sadržaja indija u slitini. To se pripisuje porastu debljine oksida s porastom postotka In u slitini. Mehanizam rasta oksidnog filma razmatran je kroz model točkastog defekta (&#8220 ; point defect model - PDM&#8221 ; ) kojeg su u literaturi predložili Macdonald i suradnici. Pokazalo se dobro slaganje eksperimentalnih rezultata s teorijom PDM.
Izvorni jezik
Hrvatski
Znanstvena područja
Kemijsko inženjerstvo
