Naslov
Utjecaj Sn i In na kinetiku rasta oksidnih filmova na aluminiju
(Influence of Sn and In on the oxide films growth kinetics on aluminum)

Autori
Tomelić, Milijana

Vrsta, podvrsta i kategorija rada
Ocjenski radovi, diplomski rad, preddiplomski

Fakultet
Kemijsko-tehnološki fakultet u Splitu

Mjesto
Split

Datum
23.10

Godina
2009

Stranica
40

Mentor
Gudić, Senka

Ključne riječi
Aluminij ; Al-Sn slitina ; Al-In slitina ; Boratni pufer ; Oksidni film
(Aluminum ; Al-Sn alloy ; Al-In alloy ; borate buffer ; oxide film)

Sažetak
Primjenom cikličke polarizacije i galvanostatske pulnse metode ispitani su formiranje i rast anodnih oksidnih filmova na aluminiju tehničke čistoće te na Al-0.2%Sn i Al-0.1%In slitinama u otopini boratnog pufera (pH 7.8). Ustanovljeno je da se u uvjetima galvanostatske anodizacije rast oksidnih filmova na ispitivanim uzorcima zbiva aktivacijski kontroliranom ionskom vodljivošću pod utjecajem jakog električnog polja kroz oksidni film, prema eksponencijalnom zakonu za ventilne metale (mehanizam "aproksimacije visokog polja"). Elektrolitički parametri rasta oksida, konstante A i B, kao i ionska vodljivost kroz oksidni sloj opadaju redom: Al  Al-Sn  Al-In. Određena je jakost električnog polja kroz okside, a dobivene vrijednosti reda veličine MV cm-1 opravdavaju primjenu modela "aproksimacije visokog polja" pri opisivanju rasta oksidnih filmova na Al te na Al-Sn i Al-In slitinama u otopini boratnog pufera.

Izvorni jezik
Hrvatski

Znanstvena područja
Kemijsko inženjerstvo

POVEZANOST RADA