Pregled bibliografske jedinice broj: 1096929
Kinetika rasta oksidnih filmova na kositru
Kinetika rasta oksidnih filmova na kositru, 2012., diplomski rad, diplomski, Kemijsko-tehnološki fakultet u Splitu, Split
CROSBI ID: 1096929 Za ispravke kontaktirajte CROSBI podršku putem web obrasca
Naslov
Kinetika rasta oksidnih filmova na kositru
(Growth kinetics of oxide films on tin)
Autori
Zlatar, Tina
Vrsta, podvrsta i kategorija rada
Ocjenski radovi, diplomski rad, diplomski
Fakultet
Kemijsko-tehnološki fakultet u Splitu
Mjesto
Split
Datum
11.10
Godina
2012
Stranica
38
Mentor
Gudić, Senka
Ključne riječi
Kositar ; Oksidni film ; Ciklička voltametrija ; Aproksimacija visokog polja
(Tin ; oxide film ; cyclic voltammetry ; high field approximation)
Sažetak
U ovom radu proučavani su rast i svojstva anodno formiranih oksidnih filmova na kositru u otopini boratnog pufera različitih temperatura (20, 30 i 40 oC) u uvjetima potenciodinamičke anodizacije. Snimani su ciklički voltamogrami u području potencijala od -1.4V do 1.5 V uz različite brzine promjene potencijala (20, 40, 60, 80 i 100 mV s-1). Ustanovljeno je da se rast oksidnih filmova na kositru zbiva aktivacijski kontroliranom ionskom vodljivošću pod utjecajem visokog električnog polja, prema eksponencijalnom zakonu za ventilne metale (mehanizam "aproksimacije visokog polja"). Kinetički parametar rasta oksida, konstanta A, kao i ionska vodljivost kroz oksidni sloj se povećavaju s porastom temperature, dok se parametra B smanjuje. U radu su određene i vrijednosti poluširina barijere za prijenos iona kroz oksidni sloj na kositru. Dobivene vrijednosti su u skladu s podacima u literaturi, te predstavljaju realnu vrijednost za prijenos iona između susjednih mjesta.
Izvorni jezik
Hrvatski
Znanstvena područja
Kemijsko inženjerstvo