Pregled bibliografske jedinice broj: 102266
Fotolitografski procesi i jetkanje u plazmi
Fotolitografski procesi i jetkanje u plazmi // 11. znanstveno-stručni simpozij Intergrafika '91 : Zbornik radova / Lovreček, Mladen (ur.).
Zagreb: Grafički fakultet Sveučilišta u Zagrebu, 1991. str. 75-78 (predavanje, domaća recenzija, cjeloviti rad (in extenso), znanstveni)
CROSBI ID: 102266 Za ispravke kontaktirajte CROSBI podršku putem web obrasca
Naslov
Fotolitografski procesi i jetkanje u plazmi
(Photolitographic process and plasma etching)
Autori
Sinovčević, Renata ; Gojo, Miroslav
Vrsta, podvrsta i kategorija rada
Radovi u zbornicima skupova, cjeloviti rad (in extenso), znanstveni
Izvornik
11. znanstveno-stručni simpozij Intergrafika '91 : Zbornik radova
/ Lovreček, Mladen - Zagreb : Grafički fakultet Sveučilišta u Zagrebu, 1991, 75-78
Skup
Znanstveno-stručni simpozij Intergrafika (11 ; 1991)
Mjesto i datum
Zagreb, Hrvatska, 18.10.1991. - 21.10.1991
Vrsta sudjelovanja
Predavanje
Vrsta recenzije
Domaća recenzija
Ključne riječi
fotolitogtafija; plazma jetkanje silicij
(photolitography; plasma etching; silicon)
Sažetak
Veliki napredak u fotolitografiji je pojava elketronske i X-ray fptplitografije kao nove generacije sunmikronskih tehnologija. Plazma jetkanje je napredak u procesu jetkanja submikronskih rešetki uspoređujući mokre kemijske metode jetkanja. Brzina plazma jetkanja varira s tlakom, smnagom izvora, i plinskom smjesom koje su prodiskutirane u radu.
Izvorni jezik
Hrvatski
