Pregled bibliografske jedinice broj: 76041
Utjecaj uvjeta depozicije na pojavu beta-faze u tankim volframskim filmovima
Utjecaj uvjeta depozicije na pojavu beta-faze u tankim volframskim filmovima // Knjiga sažetaka Treći znanstveni sastanak Hrvatskog fizikalnog društva / Jakšić, Milko ; Kokanović, Ivan ; Milošević, Slobodan (ur.).
Zagreb: Hrvatsko fizikalno društvo, 2001. str. 133-133 (poster, domaća recenzija, sažetak, znanstveni)
CROSBI ID: 76041 Za ispravke kontaktirajte CROSBI podršku putem web obrasca
Naslov
Utjecaj uvjeta depozicije na pojavu beta-faze u tankim volframskim filmovima
(The effects of deposition conditions upon the beta-W phase occurence in tungsten thin films)
Autori
Radić, Nikola ; Tonejc, Anđelka M. ; Tonejc, Antun ; Furlan, Andrej
Vrsta, podvrsta i kategorija rada
Sažeci sa skupova, sažetak, znanstveni
Izvornik
Knjiga sažetaka Treći znanstveni sastanak Hrvatskog fizikalnog društva
/ Jakšić, Milko ; Kokanović, Ivan ; Milošević, Slobodan - Zagreb : Hrvatsko fizikalno društvo, 2001, 133-133
Skup
Treći znanstveni sastanak Hrvatskog fizikalnog društva
Mjesto i datum
Zagreb, Hrvatska, 05.12.2001. - 07.12.2001
Vrsta sudjelovanja
Poster
Vrsta recenzije
Domaća recenzija
Sažetak
Tanki volframski filmovi pripravljeni su magnetronskim rasprašenjem na staklene podloge (11 mm dia, debljina 1, 0 odnosno 0, 15 mm). Ispitivan je utjecaj tlaka radnog plina u rasponu 0, 7 - 2, 8 Pa, temperature podloge (LN2, RT, 250°C) i trajanja depozicije/debljine filma (15, 30, 60 min) na pojavu metastabilne beta-W faze u pripravljenim filmovima. Struktura i fazni sastav ispitivani su metodom rentgenske difrakcije, a rezidualna naprezanja u filmu određeni su analizom oblika i položaja difrakcijskih linija odnosno mjerenjem deformacije tankih (0, 15 mm) staklenih podloga uslijed naprezanja u deponiranom filmu. Pripravljeni filmovi sadrže smjesu faza: alfa-W sa stabilnom b.c.c. strukturom i beta-W sa metastabilnom A15 (W3W) strukturom. Udio alfa-W raste s povećanjem debljine filma i porastom temperature podloge - u filmu deponiranom na 200°C rentgenski je vidljiva samo stabilna alfa-faza. S porastom tlaka radnog plina naprezanja u filmu prelaze iz tlačnih u vlačna, a udio beta-faze raste. Analiza utjecaja tlaka argona i temperature podloge na rezidualna naprezanja te fazni sastav pripravljenih filmova pokazuje jasnu korelaciju, što omogućuje odabir optimalnih parametara za depoziciju stabilnih i strukturno relaksiranih volframskih filmova.
Izvorni jezik
Hrvatski
Znanstvena područja
Fizika
