Naslov
Primjena zračenja plazme u EUVL
(Application of plasma radiation in EUVL)

Autori
Vujević, Toni

Vrsta, podvrsta i kategorija rada
Ocjenski radovi, diplomski rad, preddiplomski

Fakultet
Fakultet elektrotehnike i računarstva

Mjesto
Zagreb

Datum
03.07

Godina
2012

Stranica
28

Mentor
Pleslić, Sanda

Ključne riječi
Plazma; zračenje plazme; litografija; EUV litografija
(Plasma; plasma radiation; lithography; EUV lithography)

Sažetak
Rad opisuje razne probleme s kojima se susreću mnogi proizvođači mikroelektroničkih komponenti u njihovom nastojanju za povećanjem performansi proizvoda, i potencijala rješenja tih problema. U radu se nameće ekstremna ultraljubičasta litografija kao rješenje za proizvodnju sve manjih i bržih sklopova. U radu su opisane osnovne karakteristike plazme kao izvora EUV zračenja za takvu litografiju. Naglasak je stavljen na kapilarni izboj kao izvor plazme. Opisani su i problemi koji se javljaju kod materijala korištenih u EUVL sustavima pri visokim temperaturama kao posljedici EUV zračenja.

Izvorni jezik
Hrvatski

Znanstvena područja
Elektrotehnika

POVEZANOST RADA