Naslov
Slojevita struktura u Al-W tankim filmovima deponiranim na safirnu podlogu pri povišenoj temperaturi
(Layered structure in Al-W thin films deposited onto heated sapphire substrates)

Autori
Radić, Nikola ; Tonejc, Antun ; Tonejc, Anđelka ; Ivkov, Jovica ; Car, Tihomir

Vrsta, podvrsta i kategorija rada
Sažeci sa skupova, sažetak, znanstveni

Izvornik
Zbornik sažetaka / Radić, Nikola - Zagreb : Hrvatsko Vakuumsko Društvo (HVD), 1998, 18-18

Skup
5. Susret vakuumista Hrvatske i Slovenije

Mjesto i datum
Zagreb, Hrvatska, 20.05.1998

Vrsta sudjelovanja
Predavanje

Vrsta recenzije
Domaća recenzija

Ključne riječi
Al-W tanki film; slojevita struktura
(Al-W thin film; layered structure)

Sažetak
Amorfne slitine aluminija i volframa deponirane na korundne podloge imaju visoku temperaturu kristalizacije (520°C-620°C) u cijelom rasponu sastava u kojem je amorfnost potpuna (Al82W18 - Al62W38). Također su prilično stabilni prema dugotrajnom izotermalnom napuštanju na temperaturama malo nižim od temperatura kristalizacije. Međutim, između 100°C i 500°C amorfni tanki filmovi deponirani na podloge na sobnoj temperaturi pokazuju znatne ireverzibilne promjene električnog otpora povezane sa termički induciranom strukturnom relakasacijom. Prikazati ćemo rezultate pokušaja da se depozicijom na podloge na povišenoj temperaturi ova strukturna relaksacija ukloni ili smanji. Tanki filmovi nominalnog sastava Al75W25 pripravljeni su kodepozicijom iz dva magnetronska izvora na kružne safirne podloge (promjera 1 cm), pri čemu je temperatura podloge varirana je u rasponu od 100°C do 400°C. Struktura pripravljenih filmova ispitana je metodama rentgenske difrakcije i elektronske mikroskopije visokog razlučivanja. Filmovi deponirani 150 minuta na podloge držane na temperaturi 100°C ili 200°C bili su potpuno amorfni. Međutim, filmovi deponirani u istom trajanju na podloge na temperaturama od 250°C do 400°C, prema rentgenskim difraktogramima imaju u strukturi dvije faze. Difraktogrami ukazuju na postojanje slojevita strukture sa međumrežnim razmakom od 0,383 nm, ali bez koherencije među susjednim slojevima. Slike dobivene elektronskim mikroskopom potvrđuju postojanje takve slojevite faze. Pojava slojevite faze prvotno je povezana sa mogućnošću epitaksijalnog rasta na dobro definiranim plohama safirne podloge na povišenoj temperaturi. Međutim, mijenjanjem debljine deponiranog sloja pri istoj temperaturi depozicije, ustanovljeno je da se ona počinje formirati tek nakon što film premaši neku debljinu amorfne faze, te da podloga vjerojatno nema izravni utjecaj. Variranjem debljine (trajanja depozicije) i temperature podloge (do 400°C) određen je "fazni dijagram" sa dvije faze Al75W25 slitine. Ni jedan od stabilnih intermetalnih spojeva (Al12W, Al5W i Al4W) niti čistih komponenti (Al, a-W i b-W) slitine ne odgovara ustanovljenom međumrežnom razmaku. Za ispitati ostaju nestabilni (visokotemperaturni) intermetalni spojevi Al3W, Al7W3 i Al2W, a moguća je i pojava nove faze.

Izvorni jezik
Engleski

Znanstvena područja
Fizika

POVEZANOST RADA