Pregled bibliografske jedinice broj: 551481
DEPOZICIJA I KARAKTERIZACIJA TANKIH SLOJEVA NESTEHIOMETRIJSKOG AMORFNOG SILICIJEVOG NITRIDA
DEPOZICIJA I KARAKTERIZACIJA TANKIH SLOJEVA NESTEHIOMETRIJSKOG AMORFNOG SILICIJEVOG NITRIDA, 2010., diplomski rad, diplomski, Prirodoslovno-matematički fakultet, Zagreb
CROSBI ID: 551481 Za ispravke kontaktirajte CROSBI podršku putem web obrasca
Naslov
DEPOZICIJA I KARAKTERIZACIJA TANKIH SLOJEVA NESTEHIOMETRIJSKOG AMORFNOG SILICIJEVOG NITRIDA
(DEPOSITION AND CHARACTERIZATION OF NONSTOHIOMETRIC AMORPHUS SILICON NITRIDE THIN FILMS)
Autori
Tijanić, Zdenko
Vrsta, podvrsta i kategorija rada
Ocjenski radovi, diplomski rad, diplomski
Fakultet
Prirodoslovno-matematički fakultet
Mjesto
Zagreb
Datum
15.12
Godina
2010
Stranica
84
Mentor
Ivanda, Mile
Ključne riječi
LPCVD; SiNx; Raman
Sažetak
DEPOZICIJA I KARAKTERIZACIJA TANKIH SLOJEVA NESTEHIOMETRIJSKOG AMORFNOG SILICIJEVOG NITRIDA
Izvorni jezik
Hrvatski
Znanstvena područja
Fizika
POVEZANOST RADA
Projekti:
098-0982904-2898 - Fizika i primjena nanostruktura i volumne tvari (Ivanda, Mile, MZOS ) ( CroRIS)
Ustanove:
Institut "Ruđer Bošković", Zagreb
Profili:
Mile Ivanda
(mentor)
