Pregled bibliografske jedinice broj: 463302
Radiation-induced segregation of metals at moving SiO2- amorphous Si interface
Radiation-induced segregation of metals at moving SiO2- amorphous Si interface // Materials Research Society Symposium Procceedings Vol.469 / S.Coffa, T.Diaz de la Rubia, P.A.Stolk, C.S.Rafferty (ur.).
Pittsburgh (PA): MRS, 1997. (predavanje, međunarodna recenzija, cjeloviti rad (in extenso), znanstveni)
CROSBI ID: 463302 Za ispravke kontaktirajte CROSBI podršku putem web obrasca
Naslov
Radiation-induced segregation of metals at moving SiO2- amorphous Si interface
Autori
Williams, J.S. ; Petravić, Mladen ; Conway, M. ; Short, K.T.
Vrsta, podvrsta i kategorija rada
Radovi u zbornicima skupova, cjeloviti rad (in extenso), znanstveni
Izvornik
Materials Research Society Symposium Procceedings Vol.469
/ S.Coffa, T.Diaz de la Rubia, P.A.Stolk, C.S.Rafferty - Pittsburgh (PA) : MRS, 1997
Skup
1997 MRS Spring Meeting, Defects and Diffusion in Silicon Processing
Mjesto i datum
San Francisco (CA), Sjedinjene Američke Države, 01.04.1997. - 04.04.1997
Vrsta sudjelovanja
Predavanje
Vrsta recenzije
Međunarodna recenzija
Ključne riječi
segregation of metals; SiO2-amorphous Si interface
Sažetak
Radiation-induced segregation of metals at moving SiO2- amorphous Si interface
Izvorni jezik
Engleski
Znanstvena područja
Fizika
