Pretraga

Pretražite po imenu i prezimenu autora, mentora, urednika, prevoditelja

Napredna pretraga

Pregled bibliografske jedinice broj: 449287

Tanki filmovi SiOx pripravljeni magnetronskim rasprašenjem

Radić, Nikola; Siketić, Zdravko; Bogdanović-Radović, Ivančica; Buljan, Maja; Desnica, Uroš V.; Slunjski, Robert; Pivac, Branko; Zorc, Hrvoje
Tanki filmovi SiOx pripravljeni magnetronskim rasprašenjem // Zbornik sažetaka 6. Znanstvenog sastanka HFDa / Buljan, Hrvoje ; Horvatić, Davor (ur.).
Zagreb: Hrvatsko fizikalno društvo, 2009. str. 86-86 (poster, domaća recenzija, sažetak, znanstveni)

CROSBI ID: 449287 Za ispravke kontaktirajte CROSBI podršku putem web obrasca

Naslov
Tanki filmovi SiOx pripravljeni magnetronskim rasprašenjem
(Thin films of SiOx prepared by magnetron sputtering)

Autori
Radić, Nikola ; Siketić, Zdravko ; Bogdanović-Radović, Ivančica ; Buljan, Maja ; Desnica, Uroš V. ; Slunjski, Robert ; Pivac, Branko ; Zorc, Hrvoje

Vrsta, podvrsta i kategorija rada
Sažeci sa skupova, sažetak, znanstveni

Izvornik
Zbornik sažetaka 6. Znanstvenog sastanka HFDa / Buljan, Hrvoje ; Horvatić, Davor - Zagreb : Hrvatsko fizikalno društvo, 2009, 86-86

ISBN
978-953-7178-12-3

Skup
6. Znanstveni sastanak Hrvatskog fizikalnog društva

Mjesto i datum
Primošten, Hrvatska, 08.10.2009. - 11.10.2009

Vrsta sudjelovanja
Poster

Vrsta recenzije
Domaća recenzija

Ključne riječi
SiOx; tanki film; magnetronsko rasprašenje
(SiOx; thin film; magnetron sputtering)

Sažetak
Silicijevi oksidi su vrlo koristan materijal u mikroelektronici i optoelektronici zbog mogućnosti mijenjanja električnog otpora i optičkih osobina promjenom udjela kisika. Pri tome se SiOx<2 slojevi pretežno koriste kao pasivacijski sloj u MIS sklopovima, kao "potrošni" sloj u MEMS tehnologiji, ili kao početni materijal za formiranje kristalnih Si nanočestica u SiO2 matrici, dok se stehiometrijski SiO2 koristi kao izolator u mikroelektronici, optičke presvlake, ili kao podloga za heterogenu katalizu. Pri tome je magnetronsko rasprašenje osobito podesno za depoziciju na velikoj površini. Korištenjem različitih meta za rasprašivanje (Si, SiO, SiO2), u pojedinačnom ili kodepozicijskom režimu, te variranjem udjela kisika u Ar+O2 plazmi, postiže se precizna kontrola sastava SiOx filmova.

Izvorni jezik
Hrvatski

Znanstvena područja
Fizika



POVEZANOST RADA

Projekti:
098-0000000-3191 - Optička svojstva nanostrukturnih slojeva (Zorc, Hrvoje, MZOS ) ( CroRIS)
098-0982886-2866 - Temeljna svojstva nanostruktura i defekata u poluvodičima i dielektricima (Pivac, Branko, MZOS ) ( CroRIS)
098-0982886-2895 - Novi amorfni i nanostrukturirani tankoslojni materijali (Radić, Nikola, MZOS ) ( CroRIS)
098-1191005-2876 - Procesi interakcije ionskih snopova i nanostrukture (Jakšić, Milko, MZOS ) ( CroRIS)

Ustanove:
Institut "Ruđer Bošković", Zagreb

Profili:

Avatar Url Robert Slunjski (autor)

Avatar Url Hrvoje Zorc (autor)

Avatar Url Uroš Desnica (autor)

Avatar Url Maja Mičetić (autor)

Avatar Url Ivančica Bogdanović Radović (autor)

Avatar Url Nikola Radić (autor)

Avatar Url Zdravko Siketić (autor)

Avatar Url Branko Pivac (autor)

Citiraj ovu publikaciju:

Radić, Nikola; Siketić, Zdravko; Bogdanović-Radović, Ivančica; Buljan, Maja; Desnica, Uroš V.; Slunjski, Robert; Pivac, Branko; Zorc, Hrvoje
Tanki filmovi SiOx pripravljeni magnetronskim rasprašenjem // Zbornik sažetaka 6. Znanstvenog sastanka HFDa / Buljan, Hrvoje ; Horvatić, Davor (ur.).
Zagreb: Hrvatsko fizikalno društvo, 2009. str. 86-86 (poster, domaća recenzija, sažetak, znanstveni)
Radić, N., Siketić, Z., Bogdanović-Radović, I., Buljan, M., Desnica, U., Slunjski, R., Pivac, B. & Zorc, H. (2009) Tanki filmovi SiOx pripravljeni magnetronskim rasprašenjem. U: Buljan, H. & Horvatić, D. (ur.)Zbornik sažetaka 6. Znanstvenog sastanka HFDa.
@article{article, author = {Radi\'{c}, Nikola and Siketi\'{c}, Zdravko and Bogdanovi\'{c}-Radovi\'{c}, Ivan\v{c}ica and Buljan, Maja and Desnica, Uro\v{s} V. and Slunjski, Robert and Pivac, Branko and Zorc, Hrvoje}, year = {2009}, pages = {86-86}, keywords = {SiOx, tanki film, magnetronsko raspra\v{s}enje}, isbn = {978-953-7178-12-3}, title = {Tanki filmovi SiOx pripravljeni magnetronskim raspra\v{s}enjem}, keyword = {SiOx, tanki film, magnetronsko raspra\v{s}enje}, publisher = {Hrvatsko fizikalno dru\v{s}tvo}, publisherplace = {Primo\v{s}ten, Hrvatska} }
@article{article, author = {Radi\'{c}, Nikola and Siketi\'{c}, Zdravko and Bogdanovi\'{c}-Radovi\'{c}, Ivan\v{c}ica and Buljan, Maja and Desnica, Uro\v{s} V. and Slunjski, Robert and Pivac, Branko and Zorc, Hrvoje}, year = {2009}, pages = {86-86}, keywords = {SiOx, thin film, magnetron sputtering}, isbn = {978-953-7178-12-3}, title = {Thin films of SiOx prepared by magnetron sputtering}, keyword = {SiOx, thin film, magnetron sputtering}, publisher = {Hrvatsko fizikalno dru\v{s}tvo}, publisherplace = {Primo\v{s}ten, Hrvatska} }

Podijeli:





Contrast
Increase Font
Decrease Font
Dyslexic Font
CROSBI koristi kolačiće (cookies) kako bi poboljšao funkcionalnost stranice.