Pregled bibliografske jedinice broj: 387325
Kinetika rasta oksidnog filma na aluminiju u otopinama limunske kiseline
Kinetika rasta oksidnog filma na aluminiju u otopinama limunske kiseline, 1999., diplomski rad, Prehrambeno-tehnološki fakultet, Osijek
CROSBI ID: 387325 Za ispravke kontaktirajte CROSBI podršku putem web obrasca
Naslov
Kinetika rasta oksidnog filma na aluminiju u otopinama limunske kiseline
(The growth kinetics of oxide film on aluminium in citric acid solutions)
Autori
Kopčić, Nataša
Vrsta, podvrsta i kategorija rada
Ocjenski radovi, diplomski rad
Fakultet
Prehrambeno-tehnološki fakultet
Mjesto
Osijek
Datum
13.05
Godina
1999
Stranica
44
Mentor
Šeruga, Marijan
Ključne riječi
aluminij; oksidni film; kinetika rasta; limunska kiselina
(aluminium; oxide film; growth kinetics; citric acid)
Sažetak
Istraživana je kinetika rasta oksidnog filma na aluminiju (čistoće 99.999 %) u otopinama limunske kiseline, c=0.05 mol dm-3, različitih pH vrijednosti u rasponu pH=2-8. Istraživanja su provedena primjenom elektrokemijskih metoda: kronoamperometrije i elektrokemijske impedancijske spektroskopije (EIS). Mjerenja su provedena na sofisticiranoj aparaturi, koja se sastojala od potenciostata/ galvanostata PAR 273A i "lock-in" pojačala PAR 5210. U izvođenju mjerenja, kao i u obradi i analizi rezultata, korišteni su odgovarajući programski paketi. Rezultati kronoamperometrijskih mjerenja pokazali su da na aluminiju u otopinama limunske kiseline nastaje barijerni tip oksidnog filma. Kinetika rasta filma može se opisati tzv. "defect" modelom koji je predložio MacDougall. Ovaj model predpostavlja defektni karakter oksidnog filma, gdje se tijekom rasta filma samo manji dio anodne struje (naboja) troši na rast filma, dok se veći dio naboja troši na paralelne procese (npr. lokalno otapanje filma kao i na popravak "defekata" u strukturi filma). Mjerenja provedena pomoću EIS potvrdila su rast visokootpornog vrlo tankog (d = 3 nm) barijernog oksidnog filma na površini aluminija. Dobiveni impedancijski spektri prikazani su u obliku Bodeovih i Nyquistovih dijagrama. Analiza je pokazala da je impedancija sustava karakterizirana pojavom visokofrekventne kapacitivne petlje i induktivne petlje u nisko frekventnom području. Kapacitivnu petlju treba pripisati formiranju i rastu oksidnog filma, dok induktivnu petlju treba vjerojatno pripisati adsorpcijskim procesima na granici faza oksidni film/elektrolit. Zaključno se može reći da su elektrokemijska i površinska svojstva aluminija u otopinama limunske kiseline bitno određena prisustvom vrlo tankog visokootpornog oksidnog filma barijernog tipa na njegovoj površini, kao i različitim procesima koji se odvijaju na granici faza oksidni film/otopina limunske kiseline.
Izvorni jezik
Hrvatski
Znanstvena područja
Kemija