Pregled bibliografske jedinice broj: 377556
POVRŠINSKI SLOJ TANKIH FILMOVA W-C SLITINA
POVRŠINSKI SLOJ TANKIH FILMOVA W-C SLITINA // 15. Međunarodni sastanak Vakuumska znanost i tehnika, ZBORNIK SAŽETAKA / Radić, Nikola ; Capan, Ivana (ur.).
Zagreb: Hrvatsko Vakuumsko Društvo (HVD), 2008. str. 14-15 (poster, domaća recenzija, sažetak, znanstveni)
CROSBI ID: 377556 Za ispravke kontaktirajte CROSBI podršku putem web obrasca
Naslov
POVRŠINSKI SLOJ TANKIH FILMOVA W-C SLITINA
(Surface layer of thin films of W-C alloys)
Autori
Radić, Nikola ; Dubček, Pavo ; Ristić, Mira ; Musić, Svetozar ; Tonejc, Antun ; Bernstorff, Sigrid
Vrsta, podvrsta i kategorija rada
Sažeci sa skupova, sažetak, znanstveni
Izvornik
15. Međunarodni sastanak Vakuumska znanost i tehnika, ZBORNIK SAŽETAKA
/ Radić, Nikola ; Capan, Ivana - Zagreb : Hrvatsko Vakuumsko Društvo (HVD), 2008, 14-15
ISBN
953-98154-2-7
Skup
15. Međunarodni sastanak Vakuumska znanost i tehnika
Mjesto i datum
Varaždin, Hrvatska, 04.06.2008
Vrsta sudjelovanja
Poster
Vrsta recenzije
Domaća recenzija
Ključne riječi
W-C slitine; tanki film; površina
(W-C alloys; thin films; surface)
Sažetak
Karbidi prijelaznih metala, među njima i volframski karbid, odlikuju se nizom osobina koji ih čine tehnološki zanimljivim - visoko talište, ekstremna tvrdoća, mali koeficijent trenja, kemijska postojanost, otpornost na oksidaciju, i dobra električna vodljivost. Stanje površine takvih materijala je kritično u nekim primjenama, te se postupci pripravljanja optimiziraju u tom smislu. Površinske karakteristike (topografija, pripovršinski sloj) niza tankih filmova volfram-ugljik slitina, pripravljenih reaktivnom magnetronskom depozicijom (argon + benzen) na podlogama od monokristalnog silicija, ispitane su metodama GISAXS, AFM i SEM. Uvjeti pripravljanja varirani su u širokom rasponu vrijednosti parametara depozicije: parcijalni tlak benzena u rasponu 1-10% sa ciljem dobivanja W-C filmova sa različitim udjelom nevezanog ugljika. Temperaturom podloge (RT, 200°C, i 400°C) i polarizacijom (-70V) utjecalo se na strukturu filmova: dominantni karbid WC1-x formira se sukcesivno u mikrokristalnoj, nanokristalnoj i amorfnoj fazi kako raste udio ugrađenog ugljika, sa finom disperzijom DLC-čestica između zrna.GISAXS analiza daje 3 nm za veličinu nanozrna. Ista metoda pokazuje da je površina filmova vrlo glatka - hrapavost od 0, 5 nm - sa vrlo kratkom korelacijskom dužinom na površini. AFM rezultati potvrđuju visoku glatkost površine, koja ipak ovisi o uvjetima pripravljanja. Iz AFM rezultata određena je i prosječna veličina zrna na površini - 10-20 nm u promjeru - što površinu daje "ljuskastu" morfologiju. Rezultati pretražne elektronske mikroskopije potvrđuju površinsku topografiju filma, ali otkrivaju i strukturu filma po dubini: postoji pripovršinski sloj debljine 10-20 nm koji se po strukturi jasno razlikuje od osnovnog sloja debljine 200 nm. Osnovni sloj sastoji se od zrna-kolumni promjera 50-100 nm, na kojima je završni/ segregirani sloj finije građe. Ovaj strukturni diskontinuitet neposredno ispod površine nesumnjivo utječe na osobine filmova i otpornost na habanje u mehaničkoj primjeni.
Izvorni jezik
Hrvatski
Znanstvena područja
Fizika, Kemija
POVEZANOST RADA
Projekti:
098-0982886-2866 - Temeljna svojstva nanostruktura i defekata u poluvodičima i dielektricima (Pivac, Branko, MZOS ) ( CroRIS)
098-0982886-2895 - Novi amorfni i nanostrukturirani tankoslojni materijali (Radić, Nikola, MZOS ) ( CroRIS)
098-0982904-2952 - Sinteza i mikrostruktura metalnih oksida i oksidnih stakala (Ristić, Mira, MZOS ) ( CroRIS)
119-0982886-1009 - Struktura i svojstva posebnih nanomaterijala dobivenih suvremenim tehnikama (Tonejc, Antun, MZOS ) ( CroRIS)
Ustanove:
Institut "Ruđer Bošković", Zagreb,
Prirodoslovno-matematički fakultet, Zagreb
Profili:
Pavo Dubček
(autor)
Mira Ristić
(autor)
Antun Tonejc
(autor)
Svetozar Musić
(autor)
Nikola Radić
(autor)