Pregled bibliografske jedinice broj: 37439
UV fotootpor TiO2 nanofaznih filmova napuštenih u kisiku
UV fotootpor TiO2 nanofaznih filmova napuštenih u kisiku // Zbornik povzetkov, 6. srečanje strokovnjakov s področja vakuumske znanosti i tehnike iz Slovenije i Hrvatske
Ljubljana: National Institute of Chemistry, Ljubljana, 1999. (predavanje, domaća recenzija, sažetak, znanstveni)
CROSBI ID: 37439 Za ispravke kontaktirajte CROSBI podršku putem web obrasca
Naslov
UV fotootpor TiO2 nanofaznih filmova napuštenih u kisiku
(UV photoresistance of TiO2 nanophase films annealed in oxygen)
Autori
Car, Tihomir ; Radić, Nikola ; Turković, Aleksandra
Vrsta, podvrsta i kategorija rada
Sažeci sa skupova, sažetak, znanstveni
Izvornik
Zbornik povzetkov, 6. srečanje strokovnjakov s področja vakuumske znanosti i tehnike iz Slovenije i Hrvatske
/ - Ljubljana : National Institute of Chemistry, Ljubljana, 1999
Skup
6. srečanje strokovnjakov s področja vakuumske znanosti i tehnike iz Slovenije i Hrvatske
Mjesto i datum
Ljubljana, Slovenija, 17.06.1999
Vrsta sudjelovanja
Predavanje
Vrsta recenzije
Domaća recenzija
Ključne riječi
TiO2; UV fotootpor
(TiO2; UV photoresistance)
Sažetak
Ispitivan je fotootpor TiO2 nanofaznih filmova u ultraljubičastom području. Filmovi su pripremljeni kemijskom depozicijom iz pare (CVD) a potom napušteni u kisiku na 500oC, odnosno 800oC. Mjerenja fotootpora izvršena su za različite valne duljine u rasponu od 248.3 nm do 404.7 nm.
Izvorni jezik
Engleski
Znanstvena područja
Fizika
