Pregled bibliografske jedinice broj: 274098
ELEKTRIČNA SVOJSTVA AlXTM100-X (TM=Mo, W, Nb i Ta) TANKIH FILMOVA
ELEKTRIČNA SVOJSTVA AlXTM100-X (TM=Mo, W, Nb i Ta) TANKIH FILMOVA // Zbornik sažetaka 13. Međunarodni sastanak Vakuumska znanost i tehnika / Radić, Nikola (ur.).
Zagreb: Hrvatsko Vakuumsko Društvo (HVD), 2006. str. 24-25 (poster, domaća recenzija, sažetak, znanstveni)
CROSBI ID: 274098 Za ispravke kontaktirajte CROSBI podršku putem web obrasca
Naslov
ELEKTRIČNA SVOJSTVA AlXTM100-X (TM=Mo, W, Nb i Ta) TANKIH FILMOVA
(Electrical properties of AlXTM100-X (TM=Mo, W, Nb i Ta) thin films)
Autori
Ivkov, Jovica ; Radić, Nikola ; Tonejc, Antun ; Car, Tihomir
Vrsta, podvrsta i kategorija rada
Sažeci sa skupova, sažetak, znanstveni
Izvornik
Zbornik sažetaka 13. Međunarodni sastanak Vakuumska znanost i tehnika
/ Radić, Nikola - Zagreb : Hrvatsko Vakuumsko Društvo (HVD), 2006, 24-25
Skup
13. Međunarodni sastanak Vakuumska znanost i tehnika
Mjesto i datum
Koprivnica, Hrvatska, 13.06.2006
Vrsta sudjelovanja
Poster
Vrsta recenzije
Domaća recenzija
Ključne riječi
Tanki filmovi; aluminijeve slitine; električne osobine
(Thin films; Al-alloys; electrical properties)
Sažetak
Tanki filmovi AlXTM100-X (TM = Mo, W, Nb i Ta) slitina pripravljeni su kodepozicijom čistog aluminija i čistih prijelaznih metala iz dva nezavisno kontrolirana magnetronska izvora. Filmovi su deponirani na različite podloge (staklo, korund, safir) a debljina ispitanih filmova iznosi oko 400 nm, izuzev AlW filmova čija debljina iznosi oko 2  m. Struktura pripravljenih slitina ispitana je difrakcijom X-zraka. Intervali sastava za koje su dobiveni filmovi amorfni iznose 63≤ x≤ 88 za AlXW100-X slitine, 45≤ x≤ 85 za AlXMo100-X, te 30≤ x≤ 90 za AlXNb100-X i AlXTa100-X slitine. Temperaturna stabilnost amorfnih filmova ispitana je mjerenjem električne otpornosti,   pri izokronom grijanju (dT/dt=2 K/min) na osnovu čega su određene dinamičke temperature kristalizacije, TC. Najstabilnije su amorfne AlW slitine sa temperaturama kristalizacije iznad 500OC, zatim slijede AlMo slitine sa 450OC≤ TC≤ 520OC te AlNb i AlTa slitine sa 300OC≤ TC≤ 400OC. Iz ovoga vidimo da temperature kristalizacija nije moguće direktno korelirati sa širinom intervala sastava u kojem je moguće dobiti amorfne slitine. Električna otpornost amorfnih AlMo i AlW filmova pokazuje izraziti maksimum (1200 odnosno 500   cm) na koncentracijama koje odgovaraju intermetalnim Al3Mo i Al4W spojevima. Nadalje, bez obzira na odsustvo izrazitog maksimuma u otpornosti AlNb i AlTa ( <400  cm) slitina, temperaturni koeficijent otpornosti,  , u sva četiri sistema ima minimum za koncentracije koje odgovaraju redom Al3Mo, Al4W, Al3Nb i Al3Ta intermetalnim spojevima. Nakon kristalizacije ovisnost  i  o sastavu slitina ostaje kvalitativno ista za svaki pojedini sistem a omjer otpornosti poslije i prije kristalizacije pokazuje za sve slitine istu ovisnost o koncentraciji aliminija.
Izvorni jezik
Hrvatski
Znanstvena područja
Fizika
POVEZANOST RADA
Ustanove:
Institut za fiziku, Zagreb,
Institut "Ruđer Bošković", Zagreb,
Prirodoslovno-matematički fakultet, Zagreb
Profili:
Tihomir Car
(autor)
