Pretražite po imenu i prezimenu autora, mentora, urednika, prevoditelja

Napredna pretraga

Pregled bibliografske jedinice broj: 264049

Primjena polisilicija u termičkom elementima


Šinkić, Marko
Primjena polisilicija u termičkom elementima, 2005., magistarski rad, Fakultet elektrotehnike i računarstva, Zagreb


CROSBI ID: 264049 Za ispravke kontaktirajte CROSBI podršku putem web obrasca

Naslov
Primjena polisilicija u termičkom elementima
(Application of Polysilicon in Thermal Device.)

Autori
Šinkić, Marko

Vrsta, podvrsta i kategorija rada
Ocjenski radovi, magistarski rad

Fakultet
Fakultet elektrotehnike i računarstva

Mjesto
Zagreb

Datum
05.12

Godina
2005

Stranica
106

Mentor
Biljanović, Petar

Ključne riječi
polisilicij; aluminij-nitrid; silicij-dioksid; otporni grijač; prijenos topline; kristalno zrno; granica zrna; tanki film; LPCVD; depozicija; kaljenje; fononsko raspršenje; tuneliranje; termionska emisija; driftno-difuzijski model; skaliranje
(polysilicon; aluminum-nitride; silicon-oxide; resistance heater; heat transfer; crystalline grain; grain boundary; thin film; LPCVD; deposition; annealing; photon scattering; tunneling; thermionic emission; drift-diffusion model; scaling)

Sažetak
U radu je prikazan kratki pregled fizikalnih modela prijenosa topline i električnih grijača. Analiziran je polisilicij, kao materijal za izradu otpornog sloja grijača, te aluminij-nitridna keramika, kao izolacijski materijal za depozicijsku podlogu. Ovi materijali se koriste u mikroelektronici, ali se njihova primjena može proširiti i na ostale grane industrije. Polisilicijski grijač je grijač napravljen u tehnici tankog filma. Grijači napravljeni u tehnici tankog filma danas predstavljaju glavno istraživačko područje na području termičkih elemenata. U ovom radu predstavljen je polisilicijski grijač dobiven depozicijom u LPCVD reaktoru na aluminij-nitridnoj keramici. Polisilicij je poluvodički materijal kojemu se, dodavajući dopande, električke karakteristike mogu mijenjati u širokom opsegu. Budući da struktura deponiranog sloja uvelike ovisi o depozicijskim uvjetima, modeliranje karakteristika polisilicija je vrlo teško, te se uvode određena pojednostavljenja. Na prijenos topline unutar polisilicija uglavnom utječe mehanizam fononskog raspršenja, dok je prijenos struje posljedica djelovanja više mehanizama, kao što su driftno-difuzijski mehanizam, te tuneliranje i termionska emisija. U radu su karakteristike dobivene simulacijom ovih mehanizama u različitim uvjetima. Aluminij-nitrid keramika je relativno nov materijal, koji ima veliki potencijal za primjenu u termičkim elementima. Ova keramika je električni izolator, vrlo velike toplinske vodljivosti i temperaturne stabilnosti. Temperaturni koeficijent širenja ove keramike je sličan polisilicijskom, pa je ukupno strukturalno naprezanje malo. Aluminij-nitridna keramika pod utjecajem kisika vremenom gubi na čvrstoći. Prikazan je trodimenzionalni model grijača. Model je simuliran balansiranjem električnih i toplinskih jednadžbi, metodom konačnih elemenata. Prikazani rezultati ukazuju na vrlo dobar prijenos topline od aktivnog grijaćeg člana do grijanog objekta. Mogu se postići velike gustoće toplinskog toka, preko 200W/cm2.

Izvorni jezik
Hrvatski

Znanstvena područja
Elektrotehnika



POVEZANOST RADA


Projekti:
0036001

Ustanove:
Fakultet elektrotehnike i računarstva, Zagreb

Profili:

Avatar Url Marko Šinkić (autor)

Avatar Url Petar Biljanović (mentor)


Citiraj ovu publikaciju:

Šinkić, Marko
Primjena polisilicija u termičkom elementima, 2005., magistarski rad, Fakultet elektrotehnike i računarstva, Zagreb
Šinkić, M. (2005) 'Primjena polisilicija u termičkom elementima', magistarski rad, Fakultet elektrotehnike i računarstva, Zagreb.
@phdthesis{phdthesis, author = {\v{S}inki\'{c}, Marko}, year = {2005}, pages = {106}, keywords = {polisilicij, aluminij-nitrid, silicij-dioksid, otporni grija\v{c}, prijenos topline, kristalno zrno, granica zrna, tanki film, LPCVD, depozicija, kaljenje, fononsko raspr\v{s}enje, tuneliranje, termionska emisija, driftno-difuzijski model, skaliranje}, title = {Primjena polisilicija u termi\v{c}kom elementima}, keyword = {polisilicij, aluminij-nitrid, silicij-dioksid, otporni grija\v{c}, prijenos topline, kristalno zrno, granica zrna, tanki film, LPCVD, depozicija, kaljenje, fononsko raspr\v{s}enje, tuneliranje, termionska emisija, driftno-difuzijski model, skaliranje}, publisherplace = {Zagreb} }
@phdthesis{phdthesis, author = {\v{S}inki\'{c}, Marko}, year = {2005}, pages = {106}, keywords = {polysilicon, aluminum-nitride, silicon-oxide, resistance heater, heat transfer, crystalline grain, grain boundary, thin film, LPCVD, deposition, annealing, photon scattering, tunneling, thermionic emission, drift-diffusion model, scaling}, title = {Application of Polysilicon in Thermal Device.}, keyword = {polysilicon, aluminum-nitride, silicon-oxide, resistance heater, heat transfer, crystalline grain, grain boundary, thin film, LPCVD, deposition, annealing, photon scattering, tunneling, thermionic emission, drift-diffusion model, scaling}, publisherplace = {Zagreb} }




Contrast
Increase Font
Decrease Font
Dyslexic Font