Pregled bibliografske jedinice broj: 249938
Comparison of Semiconductor Simulation Models on the Basis of Well-Tempered nMOSFETs
Comparison of Semiconductor Simulation Models on the Basis of Well-Tempered nMOSFETs // Proceedings of MIPRO 2006 / Biljanović, Skala (ur.).
Rijeka: Hrvatska udruga za informacijsku i komunikacijsku tehnologiju, elektroniku i mikroelektroniku - MIPRO, 2006. str. 72-75 (predavanje, međunarodna recenzija, cjeloviti rad (in extenso), znanstveni)
CROSBI ID: 249938 Za ispravke kontaktirajte CROSBI podršku putem web obrasca
Naslov
Comparison of Semiconductor Simulation Models on the Basis of Well-Tempered nMOSFETs
Autori
Grgec, Dalibor
Vrsta, podvrsta i kategorija rada
Radovi u zbornicima skupova, cjeloviti rad (in extenso), znanstveni
Izvornik
Proceedings of MIPRO 2006
/ Biljanović, Skala - Rijeka : Hrvatska udruga za informacijsku i komunikacijsku tehnologiju, elektroniku i mikroelektroniku - MIPRO, 2006, 72-75
Skup
29th International Convention, MIPRO 2006
Mjesto i datum
Opatija, Hrvatska, 22.05.2006. - 26.05.2006
Vrsta sudjelovanja
Predavanje
Vrsta recenzije
Međunarodna recenzija
Ključne riječi
MOSFET; short channel effect; device simulation model; drift-diffusion; hydrodynamic; Monte-Carlo
Sažetak
The downscaling of MOS transistors has already reached the nanometer scales, with channel lengths of few tens of nanometers. Due to higher order physical effects, the accuracy of classical numerical device simulation models ; Drift- Diffusion (DD) and Hydrodynamic (HD) is questionable for nanometer scale MOSFETs. Full Band Monte-Carlo (MC) Device Simulation can serve as a physical reference for accessing the HD, DD modeling accuracy by comparing the modeling results. In this paper, a comparison of three consistent simulation models (DD, HD, MC) is presented on the basis of well-tempered bulk-Si nMOSFETs structures.
Izvorni jezik
Engleski
Znanstvena područja
Elektrotehnika
POVEZANOST RADA
Projekti:
0036001
Ustanove:
Fakultet elektrotehnike i računarstva, Zagreb
Profili:
Dalibor Grgec
(autor)