Pretražite po imenu i prezimenu autora, mentora, urednika, prevoditelja

Napredna pretraga

Pregled bibliografske jedinice broj: 194573

Određivanje stupnja uređenja u tankim filmovima silicija


Gracin, Davor; Juraić, Krunoslav; Gajović, Andreja; Tomašić, Nenad
Određivanje stupnja uređenja u tankim filmovima silicija // Zbornik Sažetaka 12. Međunarodnog sastanka Vakuumska znanost i tehnika, Trakošćan 18. svibnja 2005. / Radić, Nikola (ur.).
Zagreb: DVTH, 2005. str. 14-14 (predavanje, domaća recenzija, sažetak, znanstveni)


CROSBI ID: 194573 Za ispravke kontaktirajte CROSBI podršku putem web obrasca

Naslov
Određivanje stupnja uređenja u tankim filmovima silicija
(Degree of structural ordering in silicon thin films)

Autori
Gracin, Davor ; Juraić, Krunoslav ; Gajović, Andreja ; Tomašić, Nenad

Vrsta, podvrsta i kategorija rada
Sažeci sa skupova, sažetak, znanstveni

Izvornik
Zbornik Sažetaka 12. Međunarodnog sastanka Vakuumska znanost i tehnika, Trakošćan 18. svibnja 2005. / Radić, Nikola - Zagreb : DVTH, 2005, 14-14

Skup
12. Međunarodni sastank Vakuumska znanost i tehnika, Trakošćan 18. svibnja 2005

Mjesto i datum
Trakošćan, Hrvatska, 18.05.2005

Vrsta sudjelovanja
Predavanje

Vrsta recenzije
Domaća recenzija

Ključne riječi
tanki filmovi silicija; nano-kristali; Ramanova spektroskopija. TEM
(Silicon thin films; nano-crystal; Raman spectroscopy; TEM)

Sažetak
Mogućnost formiranja tankog filma silicija sa visokim stupnjem uređenja na temperaturama manjim od temperature taljenja stakla pobuđuje u posljednjoj dekada sve veći interes. Tehnološka pozadina ovog interesa je mogućnost proizvodnje efikasnih optoelektroničkih naprava kao što su tankoslojne solarne ćelije, ravni ekrani i dr. Znanstveni interes je usmjeren prema istraživanju ovisnosti svojstava materijala o strukturnom uređenju koje se opet povezuje sa kinetikom rasta sloja. Tanki filmovi silicija, debljina od 100 – 1000 nm, deponirani su magnetronskim rasprašenjem u atmosferi argona i vodika i plazmom pojačanom kemijskom depozicijom iz plinske faze (PECVD). Variranjem parametara depozicije formirani su slojevi različitog stupnja uređenja koje je određivano korištenjem triju metoda – Ramanovom spektroskopijom, analizom spektralne ovisnosti dielektrične konstante uz korištenje aproksimacije efektivnog medija i difrakcijom x-zraka. Na karakterističnim primjerima filmova, kojima struktura varira od vrlo neuređene amorfne do nanokristalinične, ilustrirati će se prednosti i mane pojedinih metoda te diskutirati njihova međusobna kompatibilnost. Posebna pažnja će se posvetiti mogućnosti određivanja stupnja kristaliničnosti materijala.

Izvorni jezik
Hrvatski

Znanstvena područja
Fizika



POVEZANOST RADA


Projekti:
0098022
0098018
0119420

Ustanove:
Institut "Ruđer Bošković", Zagreb


Citiraj ovu publikaciju:

Gracin, Davor; Juraić, Krunoslav; Gajović, Andreja; Tomašić, Nenad
Određivanje stupnja uređenja u tankim filmovima silicija // Zbornik Sažetaka 12. Međunarodnog sastanka Vakuumska znanost i tehnika, Trakošćan 18. svibnja 2005. / Radić, Nikola (ur.).
Zagreb: DVTH, 2005. str. 14-14 (predavanje, domaća recenzija, sažetak, znanstveni)
Gracin, D., Juraić, K., Gajović, A. & Tomašić, N. (2005) Određivanje stupnja uređenja u tankim filmovima silicija. U: Radić, N. (ur.)Zbornik Sažetaka 12. Međunarodnog sastanka Vakuumska znanost i tehnika, Trakošćan 18. svibnja 2005..
@article{article, author = {Gracin, Davor and Jurai\'{c}, Krunoslav and Gajovi\'{c}, Andreja and Toma\v{s}i\'{c}, Nenad}, editor = {Radi\'{c}, N.}, year = {2005}, pages = {14-14}, keywords = {tanki filmovi silicija, nano-kristali, Ramanova spektroskopija. TEM}, title = {Odre\djivanje stupnja ure\djenja u tankim filmovima silicija}, keyword = {tanki filmovi silicija, nano-kristali, Ramanova spektroskopija. TEM}, publisher = {DVTH}, publisherplace = {Trako\v{s}\'{c}an, Hrvatska} }
@article{article, author = {Gracin, Davor and Jurai\'{c}, Krunoslav and Gajovi\'{c}, Andreja and Toma\v{s}i\'{c}, Nenad}, editor = {Radi\'{c}, N.}, year = {2005}, pages = {14-14}, keywords = {Silicon thin films, nano-crystal, Raman spectroscopy, TEM}, title = {Degree of structural ordering in silicon thin films}, keyword = {Silicon thin films, nano-crystal, Raman spectroscopy, TEM}, publisher = {DVTH}, publisherplace = {Trako\v{s}\'{c}an, Hrvatska} }




Contrast
Increase Font
Decrease Font
Dyslexic Font