Pretražite po imenu i prezimenu autora, mentora, urednika, prevoditelja

Napredna pretraga

Pregled bibliografske jedinice broj: 172835

Magnetronsko nanašanje volframskih tankih plasti


Furlan, Andrej; Radić, Nikola
Magnetronsko nanašanje volframskih tankih plasti // Vakuumist, 23 (2003), 2/3; 17-22 (podatak o recenziji nije dostupan, članak, stručni)


CROSBI ID: 172835 Za ispravke kontaktirajte CROSBI podršku putem web obrasca

Naslov
Magnetronsko nanašanje volframskih tankih plasti
(Deposition of tungsten thin films by magnetron sputtering)

Autori
Furlan, Andrej ; Radić, Nikola

Izvornik
Vakuumist (0351-9716) 23 (2003), 2/3; 17-22

Vrsta, podvrsta i kategorija rada
Radovi u časopisima, članak, stručni

Ključne riječi
Volfram; tanke plasti; magnetronsko nanašanje; notranje napetosti
(Tungsten; thin films; magnetron sputtering; intrinsic stress)

Sažetak
Volframske tanke plasti imajo zaradi odličnih mehanskih in kemičnih lastnosti široko uporabo v imdustriji. Eden od načinov priprave volframskih tankih plasti je magnetronsko nanašanje.....

Izvorni jezik
Slv

Znanstvena područja
Fizika



POVEZANOST RADA


Projekti:
0098021

Profili:

Avatar Url Nikola Radić (autor)


Citiraj ovu publikaciju:

Furlan, Andrej; Radić, Nikola
Magnetronsko nanašanje volframskih tankih plasti // Vakuumist, 23 (2003), 2/3; 17-22 (podatak o recenziji nije dostupan, članak, stručni)
Furlan, A. & Radić, N. (2003) Magnetronsko nanašanje volframskih tankih plasti. Vakuumist, 23 (2/3), 17-22.
@article{article, author = {Furlan, Andrej and Radi\'{c}, Nikola}, year = {2003}, pages = {17-22}, keywords = {Volfram, tanke plasti, magnetronsko nana\v{s}anje, notranje napetosti}, journal = {Vakuumist}, volume = {23}, number = {2/3}, issn = {0351-9716}, title = {Magnetronsko nana\v{s}anje volframskih tankih plasti}, keyword = {Volfram, tanke plasti, magnetronsko nana\v{s}anje, notranje napetosti} }
@article{article, author = {Furlan, Andrej and Radi\'{c}, Nikola}, year = {2003}, pages = {17-22}, keywords = {Tungsten, thin films, magnetron sputtering, intrinsic stress}, journal = {Vakuumist}, volume = {23}, number = {2/3}, issn = {0351-9716}, title = {Deposition of tungsten thin films by magnetron sputtering}, keyword = {Tungsten, thin films, magnetron sputtering, intrinsic stress} }




Contrast
Increase Font
Decrease Font
Dyslexic Font