Naslov
Beta -W faza u tankim filmovima - posljedica naprezanja ili kisika u filmu?
(Beta-W phase in thin films)

Autori
Radić, Nikola ; Tonejc, Antun ; Tonejc, Anđelka ; Djerdj, Igor ; Furlan, Andrej ; Panjan, Peter ; Čekada, Miha ; Jakšić, Milko ; Medunić, Zvonko

Vrsta, podvrsta i kategorija rada
Sažeci sa skupova, sažetak, znanstveni

Izvornik
Zbornik Povzetkov / Jenko, M. - Ljubljana : Društvo za vakuumsko tehniko Slovenije, 2003, 9-9

Skup
10. Mednarodni znanstveni sestanek "Vakuumska znanost in tehnika"

Mjesto i datum
Brdo kod Kranja, Slovenija, 22.05.2003

Vrsta sudjelovanja
Poster

Vrsta recenzije
Nije recenziran

Ključne riječi
tanki filmovi volframa
(tungsten thin films)

Sažetak
Tanki filmovi volframa se zbog dobrih osobina široko primjenjuju u tehnologiji, a pojava metastabilne beta -W faze čini ih zanimljivim i za znanstvena istraživanja. U ovom radu prikazaćemo rezultate ispitivanja udjela kisika na pojavu beta -W faze u tankim volframskim filmovima pripravljenim magnetronskom depozicijom. Tanki filmovi volframa pripravljeni su na podlogama od stakla i monokristalnog silicija na sobnoj temperaturi. Ispitan je utjecaj tlaka argona (0.7-3.5 Pa), i parcijalnog tlaka kisika u radnom plinu (do 8%) na fazni sastav filmova. Fazni sastav i mikrostruktura ispitani su metodom rentgenske difrakcije. Rezidualno mikronaprezanje i veličina zrna određeni su analizom oblika difrakcijskih linija, a makronaprezanje je određeno iz deformacije podloge uzrokovane nanešenim filmom. Udio kisika određen je mjerenjem produkcije protona u nuklearnoj reakciji 16O (D, p) 17O. U ispitanom rasponu parametara depozicije, pripravljeni filmovi općenito sadrže i stabilnu ? -W fazu (bcc) i metastabilnu A15 ? -W fazu (W3W), a pri 3, 5 Pa dobiva se amorfična a-W faza. Niži tlak radnog plina povećava udio ? -W faze, dok s porastom tlaka raste udio ? -W faze. Pri tome se makroskopsko naprezanje mijenja od jakog tlačnog (- 2 GPa), prolazi kroz ravnotežno pri 2, 5 Pa, i dosiže 0, 5 GPa vlačnog naprezanja pri 2, 8 Pa tlaka radnog plina. Udio kisika raste približno proporcionalno sa radnim tlakom. Da bi razlučili utjecaj kisika na pojavu ? -W faze, kontrolirano je dodavan kisik u radni plin na ukupnom tlaku od 1, 4 Pa. Do oko 14 at.% ugrađenog kisika dobiveni su ? -W filmovi, a iznad 16 at.% svi su filmovi imali amorfičnu strukturu. U uskom rasponu 14-16 at% ugrađenog kisika filmovi sadrže sve tri faze volframa, pri čemu je udio ? -W faze redovito mali. Zaključujemo da je za pojavu ? -W faze osim dovoljne količine ugrađenog kisika (za stabilizaciju) važna i energija deponiranih volframskih atoma koja određuje način rasta filma.

Izvorni jezik
Hrvatski

Znanstvena područja
Fizika

POVEZANOST RADA