Naslov
Nanošenje filmova bakrova oksida metodom ablacije iskrom
(Deposition of copper oxide films using spark plasma technique)

Autori
Böhm, Jelena

Vrsta, podvrsta i kategorija rada
Ocjenski radovi, diplomski rad, diplomski

Fakultet
Fakultet kemijskog inženjerstva i tehnologije, Zavod za anorgansku kemijsku tehnologiju i nemetale

Mjesto
Zagreb

Datum
20.09

Godina
2021

Stranica
51

Mentor
Mandić, Vilko

Neposredni voditelj
Radovanović-Perić, Floren

Ključne riječi
nanomaterijali, tanki film, bakar, bakrovi oksidi, ablacija iskrom, mikroskop atomskih sila
(nanomaterials, thin film, copper, copper oxides, spark ablation, atomic force microscopy)

Sažetak
Ablacija iskrom je atraktivna tehnika sinteze tankih, nanoporoznih filmova metala i metalnih oksida. Iskra nastala uslijed električnog pražnjenja u atmosferi inertnog plina uništava materijal elektroda s kojih se kondenzacijom formiraju nanočestice. Odabir procesnih parametara značajno utječe na karakteristike filma koje pak utječu na primjenska svojstva filma. U ovom radu je ablacijom bakrovih elektroda provedena sinteza tankih filmova bakrovih oksida koji inače imaju široku primjenu u području optike, senzora, elektronike itd. Promjenom protoka uvedenog kisika, vremena provedbe procesa i naknadnom termičkom obradom uzoraka dobiveni su filmovi različitih debljina i homogenosti ; veličina i oblika čestica te hrapavosti površine čija se karakterizacija provela mikroskopom atomskih sila.

Izvorni jezik
Hrvatski

Znanstvena područja
Kemija, Kemijsko inženjerstvo, Interdisciplinarne tehničke znanosti

POVEZANOST RADA