Pregled bibliografske jedinice broj: 109849
Predstavljanje tehnologijsko-istraživačko-razvojnog projekta: "Usavršavanje i razvoj LPCVD procesa" iz programa TEST Ministarstva znanosti i tehnologije
Predstavljanje tehnologijsko-istraživačko-razvojnog projekta: "Usavršavanje i razvoj LPCVD procesa" iz programa TEST Ministarstva znanosti i tehnologije // Ruđer (Zagreb. 1995), 4 (2003), 2; 3-7 (podatak o recenziji nije dostupan, prikaz, stručni)
CROSBI ID: 109849 Za ispravke kontaktirajte CROSBI podršku putem web obrasca
Naslov
Predstavljanje tehnologijsko-istraživačko-razvojnog projekta: "Usavršavanje i razvoj LPCVD procesa" iz programa TEST Ministarstva znanosti i tehnologije
(Presentation of the technological research and development project "Improvement and development of the LPCVD process" of the TEST program of the Ministry of Science and Technology)
Autori
Ivanda, Mile ; Furić, Krešimir ; Biljanović, Petar ; Musić, Svetozar ; Gotić, Marijan ; Gamulin, Ozren ; Gebavi, Hrvoje
Izvornik
Ruđer (Zagreb. 1995) (1333-5693) 4
(2003), 2;
3-7
Vrsta, podvrsta i kategorija rada
Radovi u časopisima, prikaz, stručni
Ključne riječi
LPCVD; tanki film; polisilicijski termički grijač; nanosilicijsk laser
(LPCVD; thin film; polysilicon termical heater; nanosilicon laser)
Sažetak
Rast tankih filmova kemijskom depozicijom iz plinske faze pod niskim tlakom (engl. Low Pressure Chemical Vapour Deposition, LPCVD), jedna je od najvažnijih metoda depozicije tankih filmova i predstavlja temelj modernih tehnologija. Razlozi široke primjene LPCVD metode u zadnja dva desetljeća leži prvenstveno u mogućnosti deponiranja različitih elemenata i spojeva na relativno niskim temperaturama, u obliku amorfnih i polikristalnih filmova, sa velikim stupnjem uređenosti i čistoće. Metodu karakterizira jednostavno rukovanje i održavanje, visoka pouzdanost operacija, velika brzina depozicije, uniformna debljina sloja i visoka reproducibilnost. Zbog svega toga ova je metoda našla široku primjenu kod depozicije tankih filmova u poluvodičkoj industriji. U Hrvatskoj LPCVD metoda je postojala samo u nekadašnjoj tvornici poluvodiča RIZ. Uz podršku bivših djelatnika tvornice kao i podrške Ministarstva znanosti i tehnologije, ova tehnologija je prenešena na Institut ; Ruđer Bošković ; , gdje je usvojena i dalje usavršena. U okviru ovog rada biti će izložene osnovne postavke LPCVD metode, kao i koncepcija razvoja novih proizvoda – ; polisilicijskog termičkog grijača i nanosilicijskog lasera, temeljenih na tehnologiji depozicije tankih filmova.
Izvorni jezik
Hrvatski
Znanstvena područja
Fizika, Kemija, Elektrotehnika
POVEZANOST RADA
Ustanove:
Fakultet elektrotehnike i računarstva, Zagreb,
Institut "Ruđer Bošković", Zagreb
Profili:
Krešimir Furić
(autor)
Svetozar Musić
(autor)
Marijan Gotić
(autor)
Petar Biljanović
(autor)
Ozren Gamulin
(autor)
Hrvoje Gebavi
(autor)
Mile Ivanda
(autor)