hrvatski

In situ istraživanja oksidnih i sulfidnih slojeva na bizmutu

Tanki oksidni i sulfidni filmovi formirani na ventilnim metalima zbog svojih fizikalnih i površinskih osobina pružaju nove mogućnosti pronalaženja materijala s visokim dielektričnim (izolatorskim) ili, optičkim (poluvodičkim) svojstvima. Elektrokemijske tehnike omogućavaju jeftin put njihovog dobivanja. Predmet istraživanja u ovom radu su električka, dielektrička svojstva i elektronska struktura sulfidnih i oksidnih filmova izraslih na spektroskopski čistom bizmutu u Na- boratnom puferu i elektrolitnim otopinama Na-sulfida. Potenciostatskom pulsnom tehnikom i cikličkom voltametrijom istraživana je nukleacija, tj. izlazak metalnih iona iz kristalne rešetke metala i njihova ugradnja u oksidni film. Korištenjem matematičkih relacija, koje opisuju normalizirane potenciostatske tranzijente, ustanovljeno je da se nukleacije Bi_2S_3 i Bi_2O_3, na bizmutu, odvijaju 3D-mehanizmom progresivne nukleacije pod difuzijskom kontrolom. Tehnikom galvanostatske anodizacije studiran je rast anodno formiranih slojeva i utvrđeno je da se on odvija ionskom vodljivosti, prema zakonima rasta u visokom polju. Na temelju istraživanja elektrokemijskom impedancijskom spektroskopijom ustanovljeno je da anodno formirani Bi_2O_3 filmovi imaju visoku dielektričnu konstantu (epsilon=45) i male struje curenja, što ih svrstava među kandidate za kondenzatore u memorijama. Fotoosjetljivi, poluvodički, Bi_2S_3 filmovi pokazuju sklonost prema dekompoziciji.

bizmut; oksidni filmovi; sulfidni filmovi; nukleacija; difuzija; anodizacija; kronoamperometrija; impedancijska spektroskopija

nije evidentirano