hrvatski

Optimiranje ZnO slojeva za fotokatalitičku namjenu

Cilj ovoga rada bio je optimirati ZnO prevlake za fotokatalitičku namjenu te ispitati utjecaj dobivene strukture na fotokatalitičku aktivnost. Pripravljene su otopine koristeći cinkov acetat dihidrat kao polaznu tvar i metanol kao otapalo. Prevlake su dobivene kemijskim taloženjem iz otopine na staklenim pločicama i na staklenoj mrežici. Dobivene prevlake sušene su na 100 °C te su uzorci žareni na temperaturama od 300 °C i 400 °C da bi se uklonile preostale organske komponente te dobio kristalni ZnO. Prevlake su zatim karakterizirane pretražnom elektronskom mikroskopijom, infracrvenom spektroskopijom s Fourierovom transformacijom i rendgenskom difrakcijskom analizom. U konačnici je ispitana fotokatalitička aktivnost svih prevlaka tako što se pomoću UV-Vis spektrofotometra pratila promjena koncentracije otopine 2, 5-dihidroksibenzojeve kiseline koja je služila kao modelno onečišćavalo, a koja je cirkulirala iznad prevlake izložena UV zračenju. Sve prevlake pokazale su se fotokatalitički aktivnima, smanjujući koncentraciju onečišćivala gotovo za 50 % u 4 h izlaganja UV zračenju. Primijećeno je da rezultati malo odstupaju bez obzira na način priprave prevlake, što upućuje na to da koncentracija polazne otopine cinkovog acetata, podloga na kojoj se nalazi prevlaka, njezina struktura te temperatura žarenja ne utječu previše na fotokatalitičku aktivnost.

ZnO ; prevlake ; kemijsko taloženje iz otopine ; fotokatalitička aktivnost

nije evidentirano