hrvatski

Narastanje tankih filmova titanovog nitrida i titanovog oksida tehnikom depozicije atomskih slojeva

Jedan od najčešće korištenih materijala u biomedicini i stomatologiji (npr. za izradu ortopedskih implantata, stentova ili žica za ortodontske aparate) jest nitinol, legura nikla i titana. Nitinol ima čitav niz jedinstvenih svojstava, poput pamćenja oblika, superelastičnosti ili otpornosti na izvijanje [1]. Ipak, prisutnost nikla u ovoj leguri na površini materijala ili njegovo ispuštanje iz samog materijala u ljudski or- ganizam, predstavlja značajan problem, prvenstveno zbog toksičnosti i alergenskih svojstava nikla [2]. Zbog toga je modifikacija površine nitinola u svrhu povećanja njegovih antikorozivnih svojstava i biokompatibilnosti značajna za biomedicinsku pri- mjenu ovoga materijala. Jedan od načina sprječavanja ispuštanja nikla jest stvaranje zaštitnih, biokompatibilnih filmova na površini nitinola, poput titanovog nitrida (TiN) ili titanovog dioksida (TiO2). Dok se TiO2 filmovi mogu dobiti relativno lako različitim metodama, uključujući i termalnu [3], TiN je veoma teško ostvariti zbog visoke reaktivnosti Ti s kisikom. U ovom radu predstavljamo metodu narastanja tankih filmova kontrolirane debljine na nanometarskoj skali TiN i TiO2 na različitim podlogama, uključujući nitinol, korištenjem uređaja za depoziciju atomskih slojeva (ALD tehnike). Fizička i kemijska svojstva narastanih filmova ispitivana su spektroskopijom fotoelektrona rentgenskim zrakama (XPS), pretražnim elektronskim mikroskopom (SEM) i masenim spektrometrom sekundarnih iona (SIMS).

titan nitrid, titan oksid, depozicija atomskih slojeva

nije evidentirano