Depozicija tankih slojeva kružnim planarnim magnetronom Depozicija tankih slojeva kružnim planarnim magnetronom (CROSBI ID 94592)
Prilog u časopisu | izvorni znanstveni rad | međunarodna recenzija
Podaci o odgovornosti
Srzić, Mladen ; Radić, Nikola
hrvatski
Depozicija tankih slojeva kružnim planarnim magnetronom Depozicija tankih slojeva kružnim planarnim magnetronom
Proces depozicije tankih slojeva u uređaju s kružnim planarnim magnetronom opisan je analitičkim modelom, s mogućnošću parametarskog variranja svih faktora koji utječu na raspodjelu debljine sloja. Ispitano je kako se mijenja debljina sloja u ovisnosti o parametrima modela i napravljena je usporedba s eksperimentalnim podatcima za aluminij i bakar iz literature. Dobiveno je dobro slaganje eksperimentalnih i modelnih rezultata za širinu ravnog središnjeg dijela sloja, dok je slaganje u debljini tankih slojeva unutar ą15%.
Magnetronsko rasprašenje; depozicija tankih slojeva; planarni magnetron; aluminij; bakar
nije evidentirano
engleski
Depozicija tankih slojeva kružnim planarnim magnetronom Thin film deposition by a circular planar magnetron
nije evidentirano
Magnetron sputtering; deposition of thin films; planar magnetron; aluminum; copper
nije evidentirano
Podaci o izdanju
44 (3-6)
2002.
201-209-x
objavljeno
0562-1887
