hrvatski

Modeliranje profila indeksa loma tankih slojeva

Nehomogenosti u optičkim slojevima jedan su od izvora pogrešaka u eksperimentalnom formiranju višeslojnih optičkih sustava. Uzrokovane su načinom nukleacije i rasta sloja na podlozi. U literaturi je objavljeno da je moguće napraviti model profila indeksa loma ZrO2 sloja kao sustav nekog broja podslojeva. U ovom je radu za modeliranje istog materijala, te Y2O3, CeO2 i TiO2 korišten sličan pristup. Nehomogenost sloja CeO2 do sada nije obrađena u literaturi. Slojevi su pripremljeni standardnom tehnikom reaktivnog nanošenja. Optička svojstva uzoraka su mjerena transmisijskom spektrometrijom pod okomitim upadnim kutom i spektroskopskom elipsometrijom pod različitim kutovima, te su iz njih metodom reverznog dizajna modelirani profili indeksa loma. Novost u ovoj metodi je to da nije potrebno pretpostaviti oblik profila indeksa loma, nego se on računski modelira uz ciljne funkcije ograničene na uski pojas valnih duljina kako bi se u tom koraku mogla zanemariti disperzija. Različite metode minimalizacije su dale gotovo jednaka, vrlo kvalitetna rješenja, pa možemo tvrditi s velikom vjerojatnosti da su ona realna. Dobiveni sustavi se mogu koristiti u procesu dizajniranja viseslojnih optičkih sustava kao zamjena za sloj neposredno uz podlogu.

dizajn; indeks loma; oksidi; reverzni dizajn

nije evidentirano