hrvatski

UV fotovodljivost nanokristalnih TiO2 filmova napuštanih u kisiku

U ovom su radu provedena istraživanja učinka napuštanja u reaktivnim plinovima (H2, N2, O2) na optoelektrična svojstva nanofaznog titan-dioksida, proizvedenog kemijskom depozicijom u pari (CVD). Nanokristalna struktura s nano granulama i porama određena je raspršenjem rentgenskih zraka pod malim upadnim i izlaznim kutem (GISAXS). Napuštanje u H2 i N2 (do 1073 K) općenito ne doprinosi fotovodljivosti, stoga smo naša razmatranja ograničili na mjerenja fotovodjivosti u UV (248 - 404 nm) spektru za filmove napuštane u kisiku na 773 i 1073 K. Dugo vrijeme osvjetljavanjanja (tipično 2 sata) dozvoljava nam jasno razlikovanje dvije vrste vremenske ovisnosti neravnotežne fotovodljivosti. Brzi eksponencijalni porast fotovodljivosti dešava se u kratkoj prvoj fazi osvjetljavanja dok se lagani potencijalni porast dešava ostatak vremena. Izveli smo približnu formulu koja uključuje nelinearnu kombinaciju obiju funkcija i njome dobro opisali dobiveno ponašanje vodljivosti. Relativna kvantna efikasnost za inicijalno pripremljene i napuštane uzorke pokazuje nemonotonu varijaciju u fotonskoj energiji. Takva ovisnost o valnoj duljini može biti uzrokovana funkcijom elektronske gustoće na rubovima valentne vrpce ili nivoima koji se nalaze u procjepu a bliski su valentnoj vrpci. Općenito uzorci napuštani na višim temperaturama pokazuju višu kvantnu efikasnost i kraće vremenske konstante eksitacijskih procesa u razmatranom UV području.

nije evidentirano

nije evidentirano