Nalazite se na CroRIS probnoj okolini. Ovdje evidentirani podaci neće biti pohranjeni u Informacijskom sustavu znanosti RH. Ako je ovo greška, CroRIS produkcijskoj okolini moguće je pristupi putem poveznice www.croris.hr
izvor podataka: crosbi !

Mjerenje debljine tankih slojeva elipsometrijskom metodom (CROSBI ID 480004)

Prilog sa skupa u zborniku | izvorni znanstveni rad | domaća recenzija

Runje, Biserka ; Mahović, Sanjin Mjerenje debljine tankih slojeva elipsometrijskom metodom // Proceedings of the International Conference MATRIB 99 / Ivušić, Vinko (ur.). Zagreb: Hrvatsko društvo za materijale i tribologiju (HDMT), 1999. str. 347-353-x

Podaci o odgovornosti

Runje, Biserka ; Mahović, Sanjin

hrvatski

Mjerenje debljine tankih slojeva elipsometrijskom metodom

U radu je primijenjena elipsometrijska metoda mjerenja debljine sloja SiO2 u sustavu okolina-SiO2-Si, primjenom reflektirajućeg elipsometra AUTOEL-III. Mjerenja su izvršena na osam baždarnih etalona hrapavosti Laboratorija za precizna mjerenja dužina (LFSB), u cilju određivanja dubina brazde i ocjene homogenosti pokrovnog sloja SiO2.

elipsometrija; tanki sloj; baždarni etaloni hrapavosti

nije evidentirano

engleski

Measurement of Thin Films by Ellipsometry Method

nije evidentirano

ellypsometry; thin film; roughness reference standards

nije evidentirano

Podaci o prilogu

347-353-x.

1999.

objavljeno

Podaci o matičnoj publikaciji

Proceedings of the International Conference MATRIB 99

Ivušić, Vinko

Zagreb: Hrvatsko društvo za materijale i tribologiju (HDMT)

Podaci o skupu

International Conference MATRIB 99

predavanje

27.05.1999-28.05.1999

Trogir, Hrvatska

Povezanost rada

Strojarstvo