hrvatski

Primjena zračenja plazme u EUVL

Rad opisuje razne probleme s kojima se susreću mnogi proizvođači mikroelektroničkih komponenti u njihovom nastojanju za povećanjem performansi proizvoda, i potencijala rješenja tih problema. U radu se nameće ekstremna ultraljubičasta litografija kao rješenje za proizvodnju sve manjih i bržih sklopova. U radu su opisane osnovne karakteristike plazme kao izvora EUV zračenja za takvu litografiju. Naglasak je stavljen na kapilarni izboj kao izvor plazme. Opisani su i problemi koji se javljaju kod materijala korištenih u EUVL sustavima pri visokim temperaturama kao posljedici EUV zračenja.

Plazma; zračenje plazme; litografija; EUV litografija

nije evidentirano